[实用新型]面部研磨组件及美容套装

权利要求书

1.面部研磨组件，其特征在于，包括：

基板；

下研磨层，设置在所述基板的下表面；

所述下研磨层包括第一研磨区域和第二研磨区域，所述第一研磨区域包括若干第一颗粒，所述第二研磨区域包括若干第二颗粒，所述第一研磨区域和所述第二研磨区域的颗粒密度不同。

2.根据权利要求1所述的面部研磨组件，其特征在于，所述下研磨层还包括第三研磨区域和第四研磨区域，所述第三研磨区域包括若干第三颗粒，所述第四研磨区域包括若干第四颗粒，所述第一研磨区域、所述第二研磨区域、所述第三研磨区域和所述第四研磨区域的颗粒密度均不同。

3.根据权利要求2所述的面部研磨组件，其特征在于，所述第一研磨区域、所述第二研磨区域、所述第三研磨区域和所述第四研磨区域沿顺时针或逆时针依次布置在所述基板的所述下表面上，所述第一研磨区域、所述第二研磨区域、所述第三研磨区域和所述第四研磨区域的颗粒密度依次增大；第一研磨区域、所述第二研磨区域、所述第三研磨区域和所述第四研磨区域的颗粒密度均不小于180。

4.根据权利要求1所述的面部研磨组件，其特征在于，所述下研磨层还包括第三研磨区域和第四研磨区域，所述第三研磨区域包括若干第三颗粒，所述第四研磨区域包括若干第四颗粒，所述第三研磨区域和所述第四研磨区域均与所述第一研磨区域或所述第二研磨区域的颗粒密度相同。

5.根据权利要求1所述的面部研磨组件，其特征在于，还包括：

侧研磨层，设置在所述基板的侧部表面，所述侧研磨层包括若干第五颗粒。

6.根据权利要求5所述的面部研磨组件，其特征在于，所述第一研磨区域和所述第二研磨区域二者其一与所述侧研磨层的颗粒密度相同。

7.根据权利要求5所述的面部研磨组件，其特征在于，所述基板呈多边形，所述侧研磨层覆盖所述基板的至少一个角。

8.根据权利要求1所述的面部研磨组件，其特征在于，所述基板包括至少四个边，所述基板的两个相对的侧部表面均设置有弧形凹部。

9.根据权利要求1至8任一项所述的面部研磨组件，其特征在于，还包括：

镜面层，设置在所述基板的上表面。

10.美容套装，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的面部研磨组件。