[实用新型]一种压力和温度精确调控的石墨烯清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种压力和温度精确调控的石墨烯清洗装置，该清洗装置包括滚筒装置(1)、连接装置(2)和移动装置(3)；所述的滚筒装置(1)包括对称设置的轴承座(4)、穿设在轴承座(4)中的滚轴(5)、套设在滚轴(5)外部的滚筒(6)，滚轴(5)与电机连接；所述的滚筒(6)设置为圆柱体；所述的滚筒(6)设置为加热滚筒；等等。本实用新型的压力可以调控，本实用新型能实现温度的精确控制，加热体积适中，不浪费材料的同时减少了对能源的消耗。

技术领域

本实用新型属于石墨烯清洗装置结构技术领域，尤其是涉及一种压力和温度精确调控的石墨烯清洗装置结构技术领域。

背景技术

中国专利网在2019年公布了一项发明专利，《一种石墨烯的清洁装置》专利号（201820925014.8）该装置是将滚筒固定于电机上，通过电机的带动，实现对石墨烯的清洁装置，该装置的缺点是，只通过样品台对其进行加热，该方案会导致样品表面温度的不均匀，清洗效果差。

中国专利网在2019年公布了一项发明专利，《基于活性炭复合物制备超洁净石墨烯的方法》专利号（201710761253.4）该使用新型是通过将活性炭附着在滚筒表面对其进行清洁，但是该方案的缺陷是，滚筒无法精准控制滚动的接触力，从而对石墨烯的清洁效果产生影响。

石墨烯是有碳原子经过sp²杂化形成的二维材料，其具有优良的物理特性：高迁移率、良好的透光性、大的比表面积、容易沉积在硅衬底上而广泛兼容与集成电路。

石墨烯的生长需要靠Cu作为催化剂，直接抑制了其在集成电路上的应用，要将其应用于集成电路，需对生长在Cu片上的石墨烯转移至硅片上，转移如采用的是湿法转移需要引入PMMA等作为过渡产品，引入的PMMA需对其进行清除，本使用新型的目的就是将杂质产物清除干净，获得超洁净的石墨烯。

发明内容

本实用新型正是为了解决上述问题缺陷，提供一种压力和温度精确调控的石墨烯清洗装置。改进之处是在于本实用新型的压力可以调控，本实用新型能实现温度的精确控制，加热体积适中，不浪费材料的同时减少了对能源的消耗。

本实用新型采用如下技术方案实现。

一种压力和温度精确调控的石墨烯清洗装置，该清洗装置包括滚筒装置、连接装置和移动装置；

所述的滚筒装置包括对称设置的轴承座、穿设在轴承座中的滚轴、套设在滚轴外部的滚筒，滚轴与电机连接；所述的滚筒设置为圆柱体，滚筒外侧壁设置有吸附剂层和清洁剂层；所述的滚筒设置为加热滚筒；所述清洁剂为PVDF粘着剂，所述吸附剂为活性炭，泡沫铜。根据本实施方式，所述滚筒通过PVDF将清洁剂黏附于滚筒中，通过电极的转动实现清洁的作用，

所述的连接装置包括固定板A和固定板B，固定板A的端头在固定板B的中部与之固定连接构成“T”型结构，在固定板A的侧壁同侧固定设置有两个固定块，所述的两个固定块距离与轴承座配合；固定块和轴承座上分别设置有螺孔，固定块和轴承座通过在螺孔内旋入螺栓紧固连接；

滚筒装置和连接装置连接后，所述的滚筒滚动面非朝上设置；

所述的连接装置与移动装置固定连接；

所述的移动装置通过连接装置控制滚筒装置的滚筒做上下/前后往复运动。

进一步为，本实用新型所述的滚筒设置为加热滚筒结构为，所述的滚轴设置为中空滚轴，在中空滚轴内设置有加热丝；所述的加热丝通过导线、开关与电源连接。