[实用新型]一种激光能量稳定装置及其设备有效
申请号: | 202020112828.7 | 申请日: | 2020-01-17 |
公开(公告)号: | CN211719948U | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 左星星;严青松;刘咏波;李文辉 | 申请(专利权)人: | 厦门市鑫力胜光电科技有限公司 |
主分类号: | H01S3/03 | 分类号: | H01S3/03;H01S3/00;B23K26/38 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 能量 稳定 装置 及其 设备 | ||
本实用新型涉及一种激光能量稳定装置及其设备。所述激光能量稳定装置包括硅/铜圆偏振镜、光路通道和吸光板,硅/铜圆偏振镜设在光路通道内;激光发生器发出的激光光束进入光路通道内并以45°入射硅/铜圆偏振镜,部分激光光束通过硅/铜圆偏振镜反射并45°出射并被吸光板吸收;另一部分激光光束通过硅/铜圆偏振镜转化为圆偏光光束并打在分光单元上,通过至少1个分光单元的反射,最终到达激光切割工位。本实用新型实现了激光光路能量的稳定性,激光光斑较均匀,能量输出稳定,降低设备维修频次,提升设备稼动率;尤其适用于偏光片、OCA光学胶的激光切割领域。
技术领域
本实用新型涉及激光能量控制领域,特别涉及一种激光能量稳定装置及其设备。本实用新型主要应用于激光裁切偏光片与OCA光学胶。
背景技术
激光光束由于其方向性好的优点,常被作为直线基准广泛应用在加工设备中,但由于受环境状态等因素的影响,制约了激光方向稳定精度的进一步提高,限制了激光在超精密加工设备中的进一步应用。
现有CO2激光发生器激光束打出时,易受环境影响,导致激光能量输出不稳定,激光光斑大小不一,激光裁切设备频繁出现产品裁切不断,熔边大小波动大等不良产生,影响产能。因此,需要对激光光束作稳定处理,以保证打出的激光能量输出稳定,激光光线大小一致,可大幅减少设备宕机率,提升设备稼动率和产品良率。
现有的激光能量稳定装置,并不适用于偏光片、OCA光学胶的激光切割领域,原因是因为:
对于偏光片、OCA光学胶的激光切割领域来说,我们裁切时候的激光功率通常在3-15w,而激光器的总功率在100W左右(需要注意的是,如果直接采用50W等低功率的激光发生器,其刺穿能力不够,也不能很好地完成裁切),因此,偏光片、OCA光学胶的工作功率落入了激光器的不稳定区域(总功率0-15%区间),因此,需要研发一种新的激光能量稳定装置,其不仅能够对激光器的能量进行稳定控制,还能够将激光器的输出功率进行衰减,使其既能满足偏光片、OCA光学胶的工作功率需求,又能落在激光器的稳定区域。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种激光能量稳定装置及其设备与应用,旨在解决:现有的激光能量稳定装置模块不能对偏光片、OCA光学胶的激光切割领域所需要的功率进行稳定控制和衰减,导致激光能量输出不稳定,导致POL、OCA光学胶裁切不断,光斑呈椭圆形导致熔边大小不一,超出客户管控规格,设备宕机影响产出,良率损失较大的问题。
本实用新型是这样实现的,
一种激光能量稳定装置,所述激光能量稳定装置应用于偏光片与OCA光学胶的裁切,其特征在于,所述激光能量稳定装置包括硅/铜圆偏振镜、光路通道和吸光板,硅/铜圆偏振镜设在光路通道内;激光发生器发出的激光光束进入光路通道内并以45°入射硅/铜圆偏振镜,部分激光光束通过硅/铜圆偏振镜反射并45°出射并被吸光板吸收;另一部分激光光束通过硅/铜圆偏振镜转化为圆偏光光束并打在分光单元上,通过至少1个分光单元的反射,最终到达激光切割工位。
本实用新型的进一步技术方案是:所述光路通道为垂直的T型三通,包括第一通光孔、第二通光孔和第三通光孔,其中,第二通光孔垂直向上,第一通光孔与第三通光孔处于同一水平直线上;硅/铜圆偏振镜与水平面呈现45°放置在光路通道的中心位置;吸光板设置在第二通光孔的正上方,激光发生器发出的激光光速的光轴与第一通光孔平行。
本实用新型的进一步技术方案是:所述硅/铜圆偏振镜的激光衰减率在8%-95%。
本实用新型的进一步技术方案是:所述激光能量稳定装置还包括隔光板,所述隔光板设置在光路通道的左右两侧。
本实用新型的另一个目的是提供一种带如上所述的激光能量稳定装置的激光切割设备,包括用于输出脉冲激光的激光发生器和至少1个分光单元。
本实用新型的进一步技术方案是:所述分光单元为1-4个,所述分光单元为平面镜、凹面镜或者凸面镜。
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