[实用新型]一种高清洁度要求的壳体清洗设备

说明书

本实用新型涉及一种高清洁度要求的壳体清洗设备，包括机体、清洗机构、传动机构和支架组件，机体包括上端可水平转动的转台，传动机构包括竖直滑移连接在转台侧端的两根传动臂、转动连接在传动臂下端的转轴；转轴下端设置有支架组件，支架组件包括位于上端的第一连接板、位于下端的第二连接板、连接杆和放置横杆；支架组件还包括置物架，置物架包括连接在第一连接板和第二连接板之间的置物杆、设置在放置横杆和第二连接板外端的多根限位杆、设置在第二连接板上端和放置横杆上端的限位架以及设置在置物杆外端的两根插接杆；清洗机构包括设置在机体一侧的超声波清洗池。本实用新型具有保护壳体安全清洗，加快壳体清洗速率的效果。

技术领域

本实用新型涉及工业清洗领域，尤其是涉及一种高清洁度要求的壳体清洗设备。

背景技术

目前工业用零部件及工业设备的制造现场均存在大量的工业产生用机油、液压油或切削液，所以直接制造出来的零部件及工业设备的外壳表面均残留有较多的污染物和铝屑，除易造成零部件变色、锈蚀、霉斑外，残留的铝屑也会影响产品的使用性能。

现有专利授权公告号：CN203791260U《一种壳体清洗装置》公开了一种壳体清洗装置，包括进水系统、清洗系统、滚筛、水净化系统以及烘干系统，所述滚筛可在减速电机的带动下旋转实现壳体的清洗，壳体经过所述水净化系统净化后进入所述烘干系统进行烘干。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：壳体在滚筛内滚动时，碰触到壳体外端，造成壳体损伤。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种在清洗壳体时可以很好的保护壳体的高清洁度要求的壳体清洗设备。

本实用新型的上述目的是通过以下技术方案得以实现的：一种高清洁度要求的壳体清洗设备，包括机体、清洗机构、传动机构和支架组件，所述机体包括上端可水平转动的转台，所述传动机构包括竖直滑移连接在所述转台侧端的两根传动臂、转动连接在所述传动臂下端的转轴；所述支架组件固定连接在所述转轴下端，所述支架组件包括位于上端的第一连接板、位于下端的第二连接板、多个设置在所述第一连接板和所述第二连接板之间的连接杆、两端连接在相邻所述连接杆中部的放置横杆；所述支架组件还包括置物架，所述置物架包括连接在所述第一连接板和所述第二连接板之间的置物杆、设置在所述放置横杆和所述第二连接板外端的多根限位杆、设置在所述第二连接板上端和所述放置横杆上端的限位架以及设置在所述置物杆外端的两根插接杆；所述清洗机构包括设置在机体一侧的超声波清洗池。

通过采用上述技术方案，将壳体中部开设有孔或槽的部分套设在置物杆侧端的插接杆上，壳体下端一侧抵接在第二连接板上端外侧的限位架一端，另一侧抵接在第二连接板侧端的限位杆的一端，使得壳体被固定在支架组件上，因为放置横杆上侧端设置有限位杆，同时置物杆侧端设置有两根插接杆，所以支架组件上可以放置两排壳体，上排壳体的下端一侧抵接在防止横杆侧端的限位杆的一端，另一侧抵接在放置横杆上端的限位架的一端，当壳体全部放置好后，旋转机体上端的转台，令传动臂跟随转动，使得支架组件停留在超声波清洗池的正上端，然后将传动臂向下滑移，同时转动转轴，当两排壳体完全浸入清洗池内的清洗液时，停止传动臂的滑移，同时启动超声波清洗池对壳体进行清洗，清洗结束后，停止转轴的转动，同时将传动臂向上滑移，令壳体脱离出超声波清洗池后，转动机体上端转台，使得支架组件转离开超声波清洗池上方，将壳体依次取下，同时将另一根转动臂转动后重复上述操作。该方案使得壳体在清洗时被牢牢的固定在支架组件上，避免了壳体之间相互碰撞等可以造成壳体外表面损伤的情况发生，同时壳体双层放置，加上两组支架组件的交替运行，大大的提高了清洗的效率。

本实用新型进一步设置为：所述限位杆和所述插接杆上过盈套设有软管。