[实用新型]一种单真空辊底式保护气氛热处理设备

权利要求书

1.一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，沿物料运输方向依次包括预处理单元、热处理单元和后处理单元，工作时，所述预处理单元和所述热处理单元均在真空条件下通保护气进行；所述后处理单元是在密封空间内进行。

2.根据权利要求1所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述预处理单元包括入口段和过渡段，所述入口段为真空室，所述入口段与所述过渡段连接；所述过渡段远离所述入口段一端与所述热处理单元连接。

3.根据权利要求2所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述入口段包括入口门和出口门，在所述入口门和所述出口门内侧均设有位置传感器，所述位置传感器均朝所述物料放置方向设置，且所述位置传感器高度与所述物料位置相适配。

4.根据权利要求3所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述预处理单元还包括抽气系统和补气系统，所述抽气系统一端与所述入口段连通，另一端向外排出；所述补气系统一端与所述入口段连通，另一端与外设的保护气供给系统连通；所述供给系统还向所述热处理单元内提供保护气。

5.根据权利要求4所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，在所述入口门和所述出口门之间设有用于驱动所述物料在所述入口段移动的驱动系统，所述驱动系统置于所述入口段长度中间位置。

6.根据权利要求3-5任一项所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述后处理单元包括冷却段和出口段，所述冷却段两端分别与所述热处理单元和所述出口段连接。

7.根据权利要求6所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述出口段包括密封箱，在所述密封箱远离所述冷却段一侧设有若干密封帘，所述密封帘并排沿所述密封箱宽度方向设置。

8.根据权利要求7所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，在所述密封箱内侧靠近所述冷却段一端设有所述位置传感器；在所述密封箱远离所述冷却段一侧的上端部设有排气罩。

9.根据权利要求7或8所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述热处理单元包括热处理炉和置于所述热处理炉外部的控制系统，所述热处理炉分别与所述过渡段和所述冷却段连接；所述控制系统与所述热处理炉连接，用于控制所述热处理炉内所述物料的工作状态。

10.根据权利要求9所述的一种单真空辊底式保护气氛热处理设备，其特征在于，所述热处理设备还包括上料单元和下料单元，所述上料单元置于所述预处理单元之前并与所述预处理单元连接，所述下料单元置于所述后处理单元之后并与所述后处理单元连接。