[实用新型]一种滤光片、成像装置及电子设备有效
申请号: | 202020124887.6 | 申请日: | 2020-01-19 |
公开(公告)号: | CN211527616U | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 黄杰凡 | 申请(专利权)人: | 深圳奥比中光科技有限公司 |
主分类号: | G01J3/02 | 分类号: | G01J3/02;G01J3/28 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 孟学英 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 滤光 成像 装置 电子设备 | ||
1.一种滤光片,其特征在于,包括间隔体、第一电极和第二电极;
间隔体,设置在所述第一电极和所述第二电极之间,包括第一表面、第二表面以及设置在所述第一表面和所述第二表面之间的法布里珀罗干涉层;所述第一表面和所述第二表面包括高反射率膜;
所述第一电极和所述第二电极用于通电以提供所述法布里珀罗干涉层两端的电势差,根据所述电势差改变所述法布里珀罗干涉层的体积。
2.如权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述法布里珀罗干涉层包括透明或半透明状态的压电陶瓷材料。
3.如权利要求2所述的滤光片,其特征在于,所述法布里珀罗干涉层包括至少一种压电陶瓷材料和至少一种透明材料混合而成,所述透明材料包括二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛或五氧化二铌。
4.如权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述法布里珀罗干涉层根据所述电势差而膨胀或收缩,所述滤光片的中心波长随所述法布里珀罗干涉层的体积而变。
5.如权利要求1-4任一所述的滤光片,其特征在于,所述法布里珀罗干涉层采用磁控溅射、晶圆的长晶技术沉积而成。
6.如权利要求1-4任一所述的滤光片,其特征在于,所述高反射率膜是金属反射膜、电介质反射膜或金属电介质反射膜。
7.如权利要求1-4任一所述的滤光片,其特征在于,还包括第一玻璃基板和第二玻璃基板,分别设置在所述第一表面上和所述第二表面下。
8.一种成像装置,其特征在于,包括透镜单元、滤光片和图像传感器;
所述透镜单元,包括至少一组镜片,用于将目标空间的光束投射到所述滤光片上;
所述滤光片,包括如权利要求1-7任一所述的滤光片,设置在所述图像传感器上用于使特定光谱范围的光透过并入射到所述图像传感器上,所述特定光谱范围取决于所述滤光片的中心波长;
所述图像传感器,用于接收入射的光并获取所述目标空间的光谱图像。
9.如权利要求8所述的成像装置,其特征在于,所述特定光谱范围包括:紫外光谱范围、可见光谱范围、近红外光谱范围、中间波长红外光谱范围、短波长红外光谱范围中的至少一个。
10.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求8-9任一所述的成像装置。
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