[实用新型]一种深度应力检测用电磁超声激励装置有效
申请号: | 202020145116.5 | 申请日: | 2020-01-22 |
公开(公告)号: | CN211505344U | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 张闯;魏琦;刘素贞;杨庆新 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学 |
主分类号: | G01N29/24 | 分类号: | G01N29/24;G01N29/04;G01N29/07;G01N29/28;G01N29/34;G01L5/00;G01L1/25 |
代理公司: | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 王瑞 |
地址: | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 深度 应力 检测 用电 超声 激励 装置 | ||
1.一种深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于该装置包括支撑体、永磁体、入射楔块和印刷电路板;
所述支撑体由激励介质底板、永磁体放置架和连接挡板组成;激励介质底板的左右两侧设置有永磁体放置架;两个永磁体放置架之间设置有连接挡板,用于连接两个永磁体放置架并对永磁体放置架中的永磁体进行限位同时起到聚磁作用;两个永磁体放置架内部各自放置有一个永磁体;两个永磁体的对应位置的磁极的极性相反,通过异性相吸作用将两个永磁体吸向中间并通过连接挡板进行限位,从而固定在永磁体放置架内;
所述印刷电路板的一面上印刷有激励线圈;印刷电路板以印刷有激励线圈的一面向下的方式固定到支撑体内,使得激励线圈与激励介质底板的上表面正对;入射楔块的上表面与激励介质底板的下表面连接;测试时,入射楔块的上表面与激励介质底板的下表面之间涂抹有耦合介质;入射楔块的前表面制有波纹槽,用于消除在入射楔块内的反射纵波;入射楔块的上表面与下表面之间具有根据斯涅耳定律计算得到的第一临界角的角度相同的倾斜角。
2.根据权利要求1所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激励线圈与激励介质底板的上表面接触。
3.根据权利要求1所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激励介质底板设置有通透的入射楔块固定槽,入射楔块固定槽的位置与激励线圈不重合;入射楔块的上表面设置有凸起,与入射楔块固定槽配合,实现连接。
4.根据权利要求3所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激励介质底板设置有左右两个通透的入射楔块固定槽,两个入射楔块固定槽距离大于激励线圈的宽度;入射楔块的上表面的左右两侧中心位置各设置有一个凸起,与各自的入射楔块固定槽配合。
5.根据权利要求1所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激励介质底板与永磁体放置架之间设置有印刷电路板固定槽;印刷电路板以印刷有激励线圈的一面向下的方式从印刷电路板固定槽插入并固定到支撑体内。
6.根据权利要求1所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于所述激励线圈由激发区和连通区构成,激发区通过连通区连接形成激励线圈;所述激发区采用平行排列的导线;激发区位于两个永磁体之间;激发区的水平长度不大于入射楔块的上表面的水平长度。
7.根据权利要求6所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激发区与两个永磁体的距离相同且激发区的中线与两个永磁体的中线共线。
8.根据权利要求6或7所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于激发区的竖直长度不小于入射楔块的上表面的竖直长度,使得连通区和印刷电路板上的焊孔均位于入射楔块的上表面的范围外。
9.根据权利要求1或6所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于所述激励线圈的形状为长圆形或矩形。
10.根据权利要求1所述的深度应力检测用电磁超声激励装置,其特征在于所述印刷电路板设置有焊孔;焊孔分别与激励线圈的进出端以及外部激励源相连。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北工业大学,未经河北工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020145116.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可移动竖井联系测量悬挂装置
- 下一篇:一种电磁超声临界折射纵波激励装置