[实用新型]辅助加热器、加热装置以及包括该加热装置的CVD设备

权利要求书

1.一种用于加热可旋转基片承载台的加热装置，所述基片承载台具有旋转轴线(OO’)，所述加热装置位于基片承载台下方并与所述基片承载台在竖直方向上相隔一距离，其特征在于，所述加热装置包括主加热器以及多个辅助加热器，

所述主加热器用于加热上方基片承载台，

所述多个辅助加热器到旋转轴线(OO’)的距离不同，所述多个辅助加热器中的每个辅助加热器用于独立调节主加热器所加热区域中的局部温度。

2.如权利要求1所述加热装置，其特征在于，所述多个辅助加热器呈直线排布。

3.如权利要求1所述加热装置，其特征在于，所述辅助加热器到基片承载台的距离与所述主加热器到基片承载台的距离相同或不相同。

4.如权利要求1所述加热装置，其特征在于，所述主加热器包括主加热段，所述主加热段包括多个弧形加热段。

5.如权利要求1所述加热装置，其特征在于，当基片承载台旋转时，所述多个辅助加热器用于加热所述基片承载台并形成若干个到旋转轴线距离不同的辅助环形加热区，所述若干个辅助环形加热区的温度可独立调节，以调节所述主加热器所加热区域的局部温度。

6.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，当基片承载台旋转时，所述弧形加热段在基片承载台上的垂直投影形成第一环形区域，至少一个所述辅助加热器在基片承载台上的垂直投影至少部分地处于所述第一环形区域中。

7.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，当基片承载台旋转时，相邻的所述弧形加热段之间的间隙在基片承载台上的垂直投影形成第二环形区域，至少一个所述辅助加热器在基片承载台上的垂直投影至少部分地处于所述第二环形区域中。

8.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，至少一个所述辅助加热器的径向位置对应于相邻弧形加热段之间的间隙的径向位置。

9.如权利要求4所述的加热装置，其特征在于，至少一个所述辅助加热器的径向位置对应于所述弧形加热段的径向位置。

10.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，所述辅助加热器中的第一组辅助加热器的径向位置对应于相邻弧形加热段之间的间隙的径向位置，并且所述辅助加热器中的第二组辅助加热器的径向位置对应于所述弧形加热段的径向位置。

11.如权利要求10所述加热装置，其特征在于，所述第一组辅助加热器和所述第二组辅助加热器分别位于所述旋转轴线(OO’)的两侧。

12.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，至少一个所述辅助加热器的径向宽度大于相邻弧形加热段之间的间隙的宽度。

13.如权利要求4所述加热装置，其特征在于，所述主加热段还包括用于连接不同弧形加热段的连接部。

14.如权利要求13所述加热装置，其特征在于，在所述主加热段的多个相对连接部之间设置辅助加热区，所述辅助加热器位于所述辅助加热区中。

15.如权利要求14所述加热装置，其特征在于，所述辅助加热区的面积小于所述基片承载台的面积的1/5。

16.如权利要求1所述加热装置，其特征在于，所述辅助加热器包括第一辅助加热器和第二辅助加热器，所述第一辅助加热器到所述旋转轴线(OO’)的距离大于所述第二辅助加热器到所述旋转轴线(OO’)的距离，且所述第一辅助加热器的个数大于等于所述第二辅助加热器的个数。