[实用新型]真空室内框架监控装置

说明书

本实用新型公开了真空室内框架监控装置，包括固定在框架(2)底部的射频芯片(3)、及固定在真空室(1)底部的射频芯片读写器(4)，所述射频芯片读写器(4)经套封(5)固定在所述真空室(1)底部的外壁上，所述套封(5)与所述真空室(1)的外壁密封配合。本实用新型提供的真空室内框架监控装置，可监控真空室内框架的状态，提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种真空室内框架监控装置。

背景技术

磁控溅射技术目前国内外已非常常见，它能制造各种功能性薄膜产品。随着磁控溅射的普及，客户对磁控溅射的均匀性、可靠性的要求也越来越高。进而对磁控溅射的设备要求也越来越高。而镀膜稳定性又是最基本的要求。

框架是镀膜基片的载体，框架行进的稳定有利于提高基片镀膜的均匀性，以及工艺的稳定性。因而框架监控的重要性也不言而喻。

市面上大部分镀膜线采用3种框架监控模式：一是观测孔进行监测，这种监测方式比较主观，一般大的异常容易发现，但小异常无法判别，而且时间长了观测孔易被镀上膜而看不清，失去监控意义；第二种是在进出口室安装框架传感器，能解决框架信息读取，从而实现框架计数与框架使用次数的问题，但无法准确记录在真空室的信息；第三种是在真空室内布置的位置传感器，但它又只能监控位置，无法与框架编号进行匹配。如上三种方案均存在不同程度的缺陷。

实用新型内容

本实用新型目的是提供一种真空室内框架监控装置，可监控真空室内框架的状态。

基于上述问题，本实用新型提供的技术方案是：

真空室内框架监控装置，包括固定在框架底部的射频芯片、及固定在真空室底部的射频芯片读写器，所述射频芯片读写器经套封固定在所述真空室底部的外壁上，所述套封与所述真空室的外壁密封配合。

在其中的一个实施例中，所述套封包括穿设在所述真空室的外壁上且延伸至所述真空室内部的筒状部、及贴合在所述真空室外壁上的盘状部，所述筒状部与所述盘状部一体设置，所述套封具有容置所述射频芯片读写器的容纳腔，所述容纳腔内端封闭且外端延伸至所述盘状部外端。

在其中的一个实施例中，所述盘状部的外侧设有压板，所述压板固定在所述真空室的外壁上，所述压板的中部设有供所述射频芯片读写器伸出的避让孔。

在其中的一个实施例中，所述压板经多个螺丝固定在所述真空室的外壁上。

在其中的一个实施例中，所述真空室的外壁上设有与所述多个第一螺丝匹配的多个螺柱。

在其中的一个实施例中，所述盘状部与所述真空室的外壁之间设有密封圈。

在其中的一个实施例中，所述框架底部可拆卸设有射频芯片收纳部，所述射频芯片置于所述射频芯片收纳部的内部。

在其中的一个实施例中，所述射频芯片收纳部经多个第二螺丝固定在所述框架底部。

与现有技术相比，本实用新型的优点是：

采用本实用新型的技术方案，通过真空室外壁上的射频芯片读写器读取框架底部射频芯片的信息，从而记录框架的使用次数、在真空室内的状态等信息，以监控框架的状态，提高生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型磁控溅射冷却装置实施例的结构示意图；

图2为图1中I处局部放大图；

其中：