[实用新型]投射型显示装置有效

专利信息
申请号: 202020203048.3 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN211506005U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 井上和纪;山本力 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08;G02B27/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 齐秀凤
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 投射 显示装置
【说明书】:

本实用新型提供一种在能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置中,能够抑制摄影质量的劣化的投射型显示装置。投射型显示装置具备成像元件、光阀及将基于从光阀射出的光的光学像投射于放大侧成像面上且将从放大侧入射的光成像于成像元件上的成像光学系统,成像光学系统具备:第1光学系统,具备至少1片透镜且在投射及拍摄中共用;及分离部件,分离从光阀朝向第1光学系统的光路与从第1光学系统朝向成像元件的光路,且在重影光的影响较大的防反射对象面的至少1面具备防反射层。

技术领域

本实用新型涉及一种投射型显示装置。

背景技术

近年,提出有具备液晶显示元件或LCOS(Liquid Crystal On Silicon/硅基液晶)显示元件等光阀的同时具备CCD(Charge Coupled Device/电荷耦合器件)或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor/互补金属氧化物半导体)等成像元件,而且能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置(例如,专利文献1)。

专利文献1:国际公开第2017/014317号

专利文献1的投射型显示装置以如下方式构成,即,具备分离从光阀朝向屏幕的光路与从放大侧(屏幕侧)朝向成像元件的光路的分离部件,并且在进行投射时及拍摄时,共用投射型显示装置所具备的成像光学系统的一部分。

然而,当设为在投射时及拍摄时共用成像光学系统的一部分的结构时,高亮度的投射光可能会在共用部的透镜面中反射并作为高亮度的重影光而入射于成像元件。

尤其,当重影光具有成像性时,基于从光阀射出的光学像的重影光在成像元件上成像而作为重影映入于摄影图像,从而存在降低摄影质量的问题。

实用新型内容

本实用新型是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种在能够进行投射及拍摄这两者的投射型显示装置中,能够抑制摄影质量劣化的投射型显示装置。

本实用新型的一方式所涉及的投射型显示装置具备:成像元件,通过所接收的光进行拍摄;光阀,射出基于图像数据的光学像;及成像光学系统,将基于从光阀射出的光的光学像投射于放大侧成像面上,且将从放大侧入射的光成像于成像元件上,成像光学系统具备:第1光学系统,具备至少1片透镜且在投射及拍摄中共用;及分离部件,分离从光阀朝向第1光学系统的光路与从第1光学系统朝向成像元件的光路,当将从光阀起在第1光学系统内的透镜的1面处反射并且到达成像元件的路径即反射系统的倍率设为BETn,将从光阀起在放大侧成像面处反射并且到达成像元件的路径即整个系统的倍率设为BET时,在第1光学系统内的透镜的各面中,将满足条件式(1)的面设为防反射对象面,在防反射对象面的至少1面具备防反射层。

0≤BETn/BET (1)

在上述方式的投射型显示装置中,优选满足条件式(1-1)。

0≤BETn/BET<8 (1-1)

并且,在上述方式的投射型显示装置中,防反射层优选为在380~780nm的波长范围内反射率为0.18%以下的层。

并且,在上述方式的投射型显示装置中,当将反射系统的近轴成像位置设为In,将整个系统的近轴成像位置设为T,将整个系统的焦距设为f时,防反射对象面优选满足条件式(2)。并且,更优选满足条件式(2-J)。

|(In-I)×BETn/f|×100<50 (2)

0≤|(In-I)×BETn/f|×100<2 (2-1)

并且,在上述方式的投射型显示装置中,第1光学系统优选具有从最靠放大侧起至少2片以上连续设置的负透镜。

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