[实用新型]用于高纯氯硅烷生产中去除含碳杂质的装置

权利要求书

1.一种用于高纯氯硅烷生产中去除含碳杂质的装置，其特征在于，包括：

精馏装置，设置有物料入口和物料出口，用于脱除三氯氢硅原料中的高沸点组分和低沸点组分；以及

吸附装置，与所述精馏装置的物料出口相连通，内部填充有富含氨基的树脂型吸附剂和铂系催化剂，所述富含氨基的树脂型吸附剂为大孔型氨基膦酸型螯合树脂。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述精馏装置的物料出口通过离心泵与所述吸附装置相连通。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述精馏装置包括串联设置的第一精馏塔和第二精馏塔，所述吸附装置通过离心泵与所述第二精馏塔的物料出口相连通。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第一精馏塔和所述第二精馏塔分别为304不锈钢材质制成的精馏塔，塔径分别为1.2～1.5米，塔高分别为30～40米，塔内均装有丝网填料，所述丝网填料的高度为20～30米，所述塔高高于所述丝网填料的高度。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述吸附装置中包括两套吸附柱，两套所述吸附柱独立运行。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述吸附柱的柱长为2米，公称直径为DN250。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述吸附柱的外壁设置有控温夹层。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述控温夹层为水控温夹层。

9.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，两套所述吸附柱内均设置有聚四氟乙烯涂层。