[实用新型]一种多功能纳米真空镀膜仪

权利要求书

1.一种多功能纳米真空镀膜仪，包括蒸发源，所述蒸发源包括具有蒸发腔(11)的柱形坩埚(1)，所述柱形坩埚(1)的顶部设有用于出料的开口(12)，所述蒸发腔(11)内用于放置待蒸发材料(2)，其特征在于：所述柱形坩埚(1)的内底面间隔设有多个第一环形凸起(13)，所述柱形坩埚(1)的外底面上与第一环形凸起(13)对应的位置设有第一环形凹槽(14)，且所述柱形坩埚(1)为氮化硼坩埚。

2.如权利要求1所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述柱形坩埚(1)的底部可拆卸设有支撑架(3)，所述支撑架(3)上设有位于柱形坩埚(1)下方的柔性加热片(4)，所述柔性加热片(4)的上表面设有多个第二环形凸起(41)，所述第二环形凸起(41)与第一环形凹槽(14)相互配合且两者留有间隙。

3.如权利要求1所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述柱形坩埚(1)的外壁中部沿周向设有第一限位槽，所述第一限位槽内安装有辅助加热套(5)。

4.如权利要求1所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述柱形坩埚(1)的外壁下部沿周向设有第二限位槽(15)，所述第二限位槽(15)内安装有水冷带(6)。

5.如权利要求2所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述柔性加热片(4)的下方设有第一热屏蔽罩(7)，所述第一热屏蔽罩(7)安装在支撑架(3)上。

6.如权利要求3所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述辅助加热套(5)外设有第二热屏蔽罩(8)。

7.如权利要求1所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述蒸发源设有多个。

8.如权利要求1所述的一种多功能纳米真空镀膜仪，其特征在于:所述第一环形凸起(13)等间距分布，且间距为1.5-2.5mm。