[实用新型]一种上釉均匀的陶瓷上釉装置

权利要求书

1.一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括固定安装在放置台（1）内的驱动电机（2），其特征在于，所述驱动电机（2）的输出端固定连接有转杆（3），且转杆（3）上固定安装有托盘（4），所述放置台（1）上固定安装有立柱（5），所述立柱（5）上设有滑槽，且滑槽内转动连接有调节螺杆一（6），所述调节螺杆一（6）上螺纹连接有滑块（7），且滑块（7）上固定安装有喷头，所述放置台（1）的侧壁固定安装有置釉箱（8），且置釉箱（8）与喷头之间连接有连接软管（9），所述立柱（5）上固定安装有安装块（11），且安装块（11）上转动连接有安装板（12），所述安装板（12）上转动连接有定位杆（13），所述定位杆（13）上安装有固定结构。

2.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于，所述固定结构由调节螺杆二（17）、滑动齿条（18）、安装槽、多个容纳槽（14）、多个调节齿轮（15）以及多个定位板（16）组成，所述安装槽开设在定位杆（13）内，所述调节螺杆二（17）转动连接在安装槽内，所述滑动齿条（18）螺纹连接在调节螺杆二（17）上，多个所述容纳槽（14）均匀设在定位杆（13）的侧壁上，多个所述定位板（16）均通过转轴转动连接在对应的容纳槽（14）内，多个所述调节齿轮（15）分别套设在对应的转轴上，且多个调节齿轮（15）均与滑动齿条（18）相啮合。

3.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于，所述置釉箱（8）上设有卡槽，且卡槽内卡接有过滤网（10），所述过滤网（10）上固定安装有拉环。

4.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于，所述放置台（1）上固定安装有挡板（19），所述放置台（1）上设有集釉槽，所述放置台（1）上设有出液座，且出液座与集釉槽互通。

5.根据权利要求2所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于，所述定位板（16）远离定位杆（13）的一端固定安装有橡胶层，所述托盘（4）上也固定安装有橡胶层，所述橡胶层尺寸不一。

6.根据权利要求1所述的一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，其特征在于，所述放置台（1）、托盘（4）以及定位杆（13）均为耐腐蚀材料制成。