[实用新型]一种纳米真空镀膜仪有效
申请号: | 202020231911.6 | 申请日: | 2020-02-28 |
公开(公告)号: | CN211689211U | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 王宁 | 申请(专利权)人: | 苏州泓沵达仪器科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 汪建华 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 真空镀膜 | ||
1.一种纳米真空镀膜仪,包括真空镀膜仪本体(1),其包括蒸发源、蒸发坩埚(3)以及真空镀膜室(4),蒸发坩埚(3)位于真空镀膜室(4)底部,所述真空镀膜室(4)内设置有镀膜零件架,还包括电磁吸附装置(5),其特征在于:所述镀膜零件架包括第一架体(6)和第二架体(7),第一架体(6)和第二架体(7)均包括装载盘(8)以及固定在装载盘(8)两侧的电动旋转杆(9),装载盘(8)一侧固定有电磁吸附装置(5)。
2.根据权利要求1所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述蒸发源以及蒸发干锅均设置有三个,且呈等边三角形排布。
3.根据权利要求1所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述真空镀膜室(4)内壁上固定有滑轨(10),滑轨(10)上配合有行程车(11)。
4.根据权利要求3所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述滑轨(10)有两个,且对立设置,每个滑轨(10)上具有两个行程车(11)。
5.根据权利要求3所述的纳米真空镀膜仪,其特征在于:所述滑轨(10)具有两组,每组滑轨(10)具有两个滑道,滑道对立设置,每个滑道上配合有一个行程车(11)。
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