[实用新型]电极及其装置

说明书

一种电极，电极包含导电纳米结构及一外加于所述导电纳米结构的膜层，所述导电纳米结构与所述膜层的界面实质具有披覆结构。

技术领域

本实用新型实用新型涉及电极及其装置。

背景技术

近年来，透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜并不能满足显示设备的可挠性需求。因此，现今发展出了多种可挠性的透明导体，例如利用纳米等级的材料所制作的透明导体。

然而，所述的纳米等级的材料的制程技术尚有许多需要解决的问题，例如传统上是利用减法制程，例如利用蚀刻等步骤移除不需要的材料达成图案化，诸如此类的制程会造成材料的浪费及制程上的复杂性。又例如利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的引线须进行搭接，所述搭接区域造成周边区的尺寸无法缩减，进而导致周边区的宽度较大，无法满足显示器的窄边框需求。

实用新型内容

本实用新型的部分实施方式中，形成披覆结构于导电纳米结构(如金属纳米线)的特定表面，两者形成并联特性，以达到提升电特性的目的，以满足低电阻与可挠性的应用。

本实用新型的部分实施方式中，形成披覆结构于导电纳米结构(如金属纳米线)上是一种直接成型的加法制程，制程较为简单且可降低材料成本。

本实用新型的部分实施方式中，透过设计周边引线直接由改质后的导电纳米结构(如金属纳米线)成型，藉以达到不需搭接的结构，以形成宽度较小的周边区，进而满足窄边框的需求。

根据本实用新型的部分实施方式，一种电极，其特征在于，包含：导电纳米结构及一外加于所述导电纳米结构的膜层，所述导电纳米结构与所述膜层的界面实质具有披覆结构。

于本实用新型的部分实施方式中，披覆结构包括镀层，所述镀层完全包覆导电纳米结构与膜层的界面。披覆结构包括化学镀层、电镀层或其组合。

于本实用新型的部分实施方式中，膜层具有一未完全固化状态，该披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。

于本实用新型的部分实施方式中，膜层具有一第一层区域与一第二层区域，该第二层区域的固化状态高于该第一层区域的固化状态；在第一层区域中，披覆结构系沿着所述导电纳米结构的表面所形成并位于所述导电纳米结构与所述膜层的界面。在第二层区域中，至少部分的导电纳米结构的表面具有披覆结构，或者导电纳米结构的表面具有披覆结构均无披覆结构。两层区域相比，固化程度较小的区域，较大比例的导电纳米结构的表面被披覆结构所覆盖。

于本实用新型的部分实施方式中，相邻的所述导电纳米结构之间填充有该膜层，该膜层中没有单独存在的所述披覆结构。

于本实用新型的部分实施方式中，导电纳米结构包含金属纳米线，该披覆结构完全包覆所述金属纳米线与所述膜层的界面，并在所述界面形成均匀的披覆层。所述均匀的披覆层可为厚度均匀的披覆层。

于本实用新型的部分实施方式中，披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。

于本实用新型的部分实施方式中，导电材料为银、金、铂、铱、铑、钯、锇或包含前述材料的合金。

于本实用新型的部分实施方式中，披覆结构为单一金属材料或合金材料所制成的单层结构；或者该披覆结构为两种以上的金属材料或合金材料所制成的两层或多层结构。