[实用新型]一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备，包括基座、镀膜台体、真空镀膜室、主壳体和控制面板，所述基座顶端的中心位置处固定有主壳体，且主壳体内部的一侧设有预处理室，并且预处理室内部的底端固定有基台，基台的内部设有回收机构，所述基台顶端的中心位置处安装有承载网台，且承载网台上方的预处理室顶部安装有蓄液槽，并且预处理室一侧的主壳体内部设有真空镀膜室，所述真空镀膜室底部的中心位置处通过支架安装有镀膜台体，且镀膜台体内部的中心位置处设有水冷板。本实用新型不仅确保了镀膜设备使用时的镀膜效果，提高了镀膜设备使用时的节能性，而且提高了镀膜设备使用时的便捷性。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，具体为一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备。

背景技术

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行镀膜的机构，根据工艺路线不同区分有多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等很多种，其主要分成蒸发和溅射两种，而镀膜设备因其良好的综合性能，深受人们的喜爱。

目前市面上的镀膜设备多种多样，但功能性较为单一，还存在一定的问题，已逐渐无法满足人们的需求，具体问题有以下几点：

(1)现有的此类镀膜设备不便于对注塑件进行冲洗与烘干处理，导致其表面易附着粉尘等物质，进而影响镀膜效果；

(2)现有的此类镀膜设备不便于对水源进行回收利用，导致其节能性一般，还需加以改善；

(3)现有的此类镀膜设备的冷却效果一般，导致真空镀膜室内部的温度难以快速下降，使用时有所不便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备，以解决上述背景技术中提出镀膜设备不便于对注塑件进行冲洗与烘干处理、不便于对水源进行回收利用以及镀膜设备冷却效果一般的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基于真空镀膜技术的注塑件镀膜设备，包括基座、镀膜台体、真空镀膜室、主壳体和控制面板，所述基座顶端的中心位置处固定有主壳体，且主壳体内部的一侧设有预处理室，并且预处理室内部的底端固定有基台，基台的内部设有回收机构，所述基台顶端的中心位置处安装有承载网台，且承载网台上方的预处理室顶部安装有蓄液槽，并且预处理室一侧的主壳体内部设有真空镀膜室，所述真空镀膜室底部的中心位置处通过支架安装有镀膜台体，且镀膜台体内部的中心位置处设有水冷板，水冷板的两端皆延伸至镀膜台体的外部，所述主壳体表面的两侧皆安装有密封门，且密封门下方的主壳体表面安装有控制面板。

优选的，所述蓄液槽的底端安装有等间距的喷嘴，且蓄液槽顶端的中心位置处设有注液口，注液口的顶端延伸至主壳体的外部，以便对注塑件进行冲洗处理。

优选的，所述预处理室一侧的内壁上安装有加热管，且加热管一侧的预处理室内壁上安装有温度传感器，以便对注塑件进行烘干处理。

优选的，所述回收机构的内部依次设有溢流槽、输送腔体、循环泵、净化箱以及蓄液腔体，所述基台内部的一侧设有蓄液腔体，且蓄液腔体顶部的一侧设有溢流槽，溢流槽的顶端延伸至基台的外部，并且蓄液腔体内部的一侧安装有净化箱，以便对水源进行净化处理。

优选的，所述蓄液腔体一侧的基台内部设有输送腔体，且输送腔体内部的中心位置处安装有循环泵，循环泵的一端通过导管延伸至净化箱的内部，循环泵的另一端通过导管延伸至蓄液槽的内部，以便对已净化水源进行回收利用。

优选的，所述镀膜台体两侧的真空镀膜室内壁上皆安装有环形冷凝管，且环形冷凝管一端的外壁上设有进液口，进液口远离环形冷凝管的一端延伸至主壳体的外部，以便对真空镀膜室进行降温处理。

优选的，所述水冷板的两端皆固定有等间距的导热块，导热块的一端延伸至水冷板的外部，且水冷板外侧的导热块一端皆涂抹有低熔点金属粉末，以便对镀膜台体进行降温处理。