[实用新型]一种基于光吸收增强型的叠层太阳能电池有效
申请号: | 202020263861.X | 申请日: | 2020-03-06 |
公开(公告)号: | CN211629136U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 高博文;孟婧 | 申请(专利权)人: | 泰山学院 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/46 |
代理公司: | 泰安市诚岳专利代理事务所(特殊普通合伙) 37267 | 代理人: | 姚艳梅 |
地址: | 271000 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 光吸收 增强 太阳能电池 | ||
1.一种基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于,包括顶电池、中间连接层和底电池,所述底电池包括自下至上依次层叠设置的导电玻璃FTO阴极、ZnO电子传输层、金属Ag周期阵列纳米结构薄膜、钙钛矿活性层、Spiro-OMeTAD空穴传输层;所述顶电池包括自下至上层叠设置的金属An周期整列纳米结构薄膜、聚合物富勒烯共混活性层、MoO3空穴传输层、金属阳极Al。
2.根据权利要求1所述的基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于:中间连接层是通过连续蒸镀工艺实现,厚度为20~30nm,其材料为MoO3/Al/ZnO。
3.根据权利要求2所述的基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于:所述的金属Ag周期阵列纳米结构薄膜通过紫外光固化纳米压印技术实现,薄膜阵列结构为矩形。
4.根据权利要求2所述的基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于:所述的ZnO电子传输层通过旋涂和退火处理制备,厚度为10nm; Spiro-OMeTAD空穴传输层采用溶液旋涂制备,厚度为40nm。
5.根据权利要求2所述的基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于:钙钛矿活性层CH3NH3PbI3和聚合物富勒烯共混活性层PBDTDPP:PCBM通过旋涂和退火处理制备,厚度分别为300nm和90nm。
6.根据权利要求2所述的基于光吸收增强型的叠层太阳能电池,其特征在于:所述的MoO3阳极修饰层和金属阳极Al通过加热蒸镀制备,厚度分别为30nm和120nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择