[实用新型]一种光学元件亚表面缺陷快速检测装置

权利要求书

1.一种光学元件亚表面缺陷快速检测装置，包括用于放置待测光学元件的样品台，用于对光学元件进行扫描的成像模块，用于控制样品台、监测成像模块并采集成像模块图像的控制系统，以及对采集图像进行拼接的图像处理系统，其特征在于：

所述的成像模块包括散射成像模块、荧光成像模块以及共聚焦荧光成像模块，其中，荧光成像模块和散射成像模块的光路共用激光光源，所述激光光源发射的激光通过第一光束整形器照射到待测的光学元件上，光学元件表面的散射光和荧光同时由散射/荧光成像物镜收集，散射光通过第一分光镜反射进入散射成像模块的探测器中；荧光透射第一分光镜进入荧光成像模块的探测器中；

共聚焦荧光成像模块的光路使用共聚焦激光器和共聚焦探测器，共聚焦激光器发射的激光通过第二光速整形器后顺次透射过第二分光镜、第一分光镜和共聚焦成像物镜后照射到光学元件，光学元件表面缺陷激发的荧光顺次透射过共聚焦成像物镜和第一分光镜后，通过第二分光镜的反射进入共聚焦探测器。

2.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，散射成像模块的探测器采用紫外增强CCD，荧光成像模块的探测器采用EMCCD，两者的分辨率至少为1024*1024。

3.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，待测光学元件的前后两侧设有用于收集剩余透射光和一级反射激光的吸收陷阱装置。

4.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，荧光成像模块和散射成像模块中的激光光源采用波长为355nm的准连续或连续激光；共聚焦荧光成像模块中的共聚焦激光器采用波长为375nm的准连续或连续激光。

5.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，第一分光镜和第二分光镜均采用二向色镜。

6.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，所述样品台包括五维高精度平移台和样品夹具，待测光学元件通过样品夹具固定在五维高精度平移台上。

7.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，所述的共聚焦成像物镜和散射/荧光成像物镜的放置位置相同，在进行共聚焦荧光成像时，将散射/荧光成像物镜手动更换为高倍率的共聚焦成像物镜。

8.根据权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷快速检测装置，其特征在于，散射成像模块的探测器和第一分光镜之间设有第一筒镜；荧光成像模块的探测器和第一分光镜之间顺次设有可旋转棱镜、第二筒镜；共聚焦荧光成像模块的共聚焦探测器与第二分光镜之间设有透镜；第二分光镜与可旋转棱镜之间设有共聚焦扫描头。