[实用新型]一种具有注入装置的双室真空室

权利要求书

1.一种具有注入装置的双室真空室，包括壳体(11)，所述的壳体(11)呈方形且其上端盖设有盖板(12)，所述的壳体(11)内设置有内壳(13)，该内壳(13)中开设有真空腔(14)，所述的盖板(12)盖设于壳体(11)上端时会对真空腔(14)进行密封；其特征在于：

在所述的内壳(13)外侧设置有一延伸出壳体(11)外侧的注入装置，所述的注入装置包括有：

固定在所述的内壳(13)外侧并作为承载结构的基座(21)，该基座(21)内横向开设有一行程孔(22)，且在该行程孔(22)的外侧设置与有壳体(11)外部相连通的注入口(23)；

位于所述的基座(21)的壁内且将真空腔(14)和行程孔(22)相连通的注入通道(3)；

设置在所述的行程孔(22)内且可沿行程孔(22)的方向往复滑移的密封杆(24)，该密封杆(24)通过在行程孔(22)内的滑移可密封或开放注入通道(3)；

位于所述的行程孔(22)内且被密封杆(24)压缩的复位件，通过该复位件使密封杆(24)始终具有密封注入通道(3)的趋势；

以及设置在行程孔(22)内并用于限位密封杆(24)位置的限位挡块(27)。

2.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的注入通道(3)包括有引入段(31)、连接段(32)以及引出段(33)，所述的引入段(31)呈纵向设置且其下端与行程孔(22)相通，所述的引出段(33)呈横向设置且其一端伸入至内壳(13)的真空腔(14)中，所述的连接段(32)呈L型且用于连接引入段(31)和引出段(33)。

3.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的复位件采用压缩弹簧(26)，所述的密封杆(24)朝向内壳(13)的一侧设置有一压缩缺口(25)，所述的压缩弹簧(26)位于压缩缺口(25)内并由内壳(13)和密封杆(24)压缩限位。

4.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的密封杆(24)朝向注入口(23)的一端设置有第一耐磨块(41)，所述的限位挡块(27)朝向密封杆(24)的一端设置有可与第一耐磨块(41)相抵的第二耐磨块(42)。

5.根据权利要求4所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的第一耐磨块(41)和第二耐磨块(42)相向的一端分别设置有相匹配的第一倾斜面(411)和第二倾斜面(422)。

6.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的密封杆(24)的外周开设有一凹槽(51)，且在该凹槽(51)内设置有与行程孔(22)的孔壁构成滚动配合的滚珠(52)。

7.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的基座(21)伸出至壳体(11)外的部分作为管件安装部(61)，该管件安装部(61)用于外接管件，且在该管件安装部(61)的外周设置有规则的内槽(62)以方便外接管件固定在管件安装部(61)。

8.根据权利要求1所述的一种具有注入装置的双室真空室，其特征在于：所述的壳体(11)下端的四个顶角处设置有向下延伸的支撑脚(71)，每一个所述的支撑脚(71)均设置有滚轮(72)。