[实用新型]一种双面研磨装置

权利要求书

1.一种双面研磨装置，其特征在于，包括：

上定盘(21)；

基准平板(22)，设置在所述上定盘(21)的正上方以形成基准平面；

定盘平衡机构(23)，连接在所述基准平板(22)和所述上定盘(21)之间，且当所述上定盘(21)与所述基准平板(22)之间产生夹角时，对所述上定盘(21)的倾斜位置施加相应的作用力以使所述上定盘(21)处于平衡状态。

2.如权利要求1所述的双面研磨装置，其特征在于，所述定盘平衡机构(23)包括若干弹性部件(231)，若干所述弹性部件(231)在所述上定盘(21)表面均匀分布且呈中心对称分布。

3.如权利要求2所述的双面研磨装置，其特征在于，若干所述弹性部件(231)在所述上定盘(21)表面形成包括第一圆环(2311)、第二圆环(2312)和第三圆环(2313)的同心圆，所述第一圆环(2311)、所述第二圆环(2312)和所述第三圆环(2313)由内至外依次分布。

4.如权利要求3所述的双面研磨装置，其特征在于，所述第一圆环(2311)与所述上定盘(21)内边沿之间的距离、所述第二圆环(2312)与所述第一圆环(2311)之间的距离、所述第二圆环(2312)和所述第三圆环(2313)之间的距离、所述第三圆环(2313)与所述上定盘(21)外边沿之间的距离均相等。

5.如权利要求1所述的双面研磨装置，其特征在于，还包括定盘升降机构(24)，连接于所述基准平板(22)的上表面以带动所述上定盘(21)、所述基准平板(22)和所述定盘平衡机构(23)沿所述上定盘(21)的中心轴进行上升或下降。

6.如权利要求5所述的双面研磨装置，其特征在于，所述定盘升降机构(24)包括若干可伸缩支撑连杆(241)，所述可伸缩支撑连杆(241)的一端连接于所述基准平板(22)的上表面，且若干所述可伸缩支撑连杆(241)在所述基准平板(22)的表面均匀分布。

7.如权利要求6所述的双面研磨装置，其特征在于，还包括若干平衡调节装置(25)，若干所述平衡调节装置(25)一一对应地安装在若干所述可伸缩支撑连杆(241)上，所述平衡调节装置(25)通过调节所述可伸缩支撑连杆(241)的伸缩长度使所有所述可伸缩支撑连杆(241)的长度均相等。

8.如权利要求7所述的双面研磨装置，其特征在于，还包括下定盘(26)，设置于所述上定盘(21)的正下方，所述下定盘(26)可随其旋转轴进行旋转以当所述上定盘(21)下降至待研磨件表面时与所述上定盘(21)共同配合对所述待研磨件进行研磨。

9.如权利要求8所述的双面研磨装置，其特征在于，还包括上定盘支撑机构(27)和下定盘支撑机构(28)，其中，

所述上定盘支撑机构(27)位于所述上定盘(21)的上方且通过所述定盘升降机构(24)与所述基准平板(22)连接；

所述下定盘支撑机构(28)安装在所述下定盘(26)的下方以支撑所述下定盘(26)。

10.如权利要求9所述的双面研磨装置，其特征在于，还包括基座(29)，其中，所述下定盘支撑机构(28)固定于所述基座(29)上，所述上定盘支撑机构(27)横跨于所述上定盘(21)的上方且固定至所述下定盘支撑机构(28)两侧的所述基座(29)上。