[实用新型]一种蚀刻设备

权利要求书

1.一种蚀刻设备，其特征在于，包括：蚀刻槽、上极板、下极板和可变电源，上极板和下极板分别设置在蚀刻槽的上下底面，蚀刻槽用于容置蚀刻液且内部用于放置待蚀刻基板，可变电源与上下极板连接，可变电源通过调节上极板和下极板的电压来控制蚀刻槽的蚀刻液中蚀刻出的离子在待蚀刻基板位置的浓度。

2.根据权利要求1所述的一种蚀刻设备，其特征在于，还包括第一检测单元，第一检测单元设置在蚀刻槽的侧壁上且靠近待蚀刻基板位置，第一检测单元用于检测蚀刻液中蚀刻出的离子在待蚀刻基板位置的浓度。

3.根据权利要求2所述的一种蚀刻设备，其特征在于，还包括第二检测单元，第二检测单元设置在蚀刻槽的侧壁且在第一检测单元上方。

4.根据权利要求2或3所述的一种蚀刻设备，其特征在于，还包括控制器，控制器分别与第一检测单元和可变电源连接，控制器用于获取第一检测单元数据并根据第一检查单元数据改变可变电源的电压。

5.根据权利要求4所述的一种蚀刻设备，其特征在于，所述控制器为单片机。

6.根据权利要求4所述的一种蚀刻设备，其特征在于，还包括检测计算机，计算机分别与可变电源和控制器连接。

7.根据权利要求1所述的一种蚀刻设备，其特征在于，蚀刻出的离子为铜离子。