[实用新型]一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置

权利要求书

1.一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，包括反应釜本体(1)，其特征在于：所述反应釜本体(1)的顶边缘安装有反应釜顶盖(2)，所述反应釜顶盖(2)包括顶盖本体(21)、凸出环(22)、密闭环(23)和限位环(24)，凸出环(22)固定连接顶盖本体(21)的外边缘，顶盖本体(21)的底壁与密闭环(23)焊接固定，密闭环(23)的内壁底端处安装限位环(24)，限位环(24)活动连接反应釜本体(1)的外壁，反应釜本体(1)的内壁接触连接有清理组件(3)，所述清理组件(3)包括三脚架(31)、竖臂(32)、毛刷(33)和刮离组件(34)，三脚架(31)通过焊接的方式固定连接顶盖本体(21)的底壁，三脚架(31)的底端与竖臂(32)固定，竖臂(32)的侧壁上安装毛刷(33)和刮离组件(34)，毛刷(33)和刮离组件(34)均与反应釜本体(1)的内壁接触，反应釜本体(1)的外壁处安装有驱动组件(4)，所述驱动组件(4)包括支撑板(41)、电机(42)、主动齿轮(43)、伺服液压缸(44)、滚轮座(45)和滚轮(46)，支撑板(41)通过焊接的方式固定在反应釜本体(1)的外壁，支撑板(41)上固定电机(42)和伺服液压缸(44)，竖直分布的电机(42)的顶端安装有主动齿轮(43)，主动齿轮(43)接触连接密闭环(23)的外壁，伺服液压缸(44)的顶端安装有滚轮座(45)，滚轮座(45)上安装有滚轮(46)。

2.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述刮离组件(34)包括刮刀(341)、竖轴(342)、轴座(343)和弹片(344)，轴座(343)安装在竖臂(32)的两端，轴座(343)通过耐腐蚀的轴承活动连接竖轴(342)，竖轴(342)的外壁上安装有刮刀(341)，刮刀(341)的侧壁连接弹片(344)的一端，弹片(344)的另一端连接竖臂(32)。

3.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述反应釜本体(1)的顶端外壁处开设有与限位环(24)相配合的环状凹槽(11)，环状凹槽(11)的上下高度值大于限位环(24)的上下高度值。

4.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述密闭环(23)的外壁处开设有与主动齿轮(43)相配合的齿槽。

5.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述滚轮(46)接触连接凸出环(22)的底壁。

6.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述电机(42)和伺服液压缸(44)均呈立式分布，电机(42)位于伺服液压缸(44)的内侧。

7.根据权利要求1所述的一种硅烷偶联反应釜的内壁清理装置，其特征在于：所述密闭环(23)与反应釜本体(1)的外壁接触。