[实用新型]一种线性坩埚有效

专利信息
申请号: 202020331871.2 申请日: 2020-03-17
公开(公告)号: CN212247183U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 杜青岛 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 颜丽蓉
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 线性 坩埚
【说明书】:

实用新型涉及蒸镀技术领域,特别涉及一种线性坩埚,通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口,使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀,提高蒸镀的均匀性;通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜,由于坩埚本体侧壁的倾斜设置,使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布,从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性;本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域,特别涉及一种线性坩埚。

背景技术

蒸镀工艺是有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix Organic Light EmittingDiode,简称为AMOLED)制作过程的一项重要工艺,有机材料通过加热熔融蒸发镀到玻璃表面上。现有的坩埚在有机材料剩余量不多,材料不能十分均匀地分布在坩埚底部,会造成坩埚不同区域的蒸汽量有差异性,最终导致镀到玻璃上的膜厚不均匀,影响镀膜的品质;另外,蒸镀出来的蒸汽存在重叠和边缘不整齐现象,也会导致蒸镀到玻璃上的膜厚不均匀。

实用新型内容

为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种能够提高蒸镀均匀性的线性坩埚。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:

一种线性坩埚,包括上端具有开口的坩埚本体和盖设在所述开口处的坩埚上盖,所述坩埚上盖设有供坩埚本体内的喷射物向外喷射的喷嘴,所述喷嘴的喷射口为一字形喷射口,所述坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜。

进一步的,所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜,所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰梯形。

进一步的,所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜,所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰三角形。

进一步的,所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜,所述坩埚本体底部的竖直截面为圆弧形。

进一步的,所述一字形喷射口的宽度为5mm-15mm。

进一步的,沿所述喷嘴的进口端至出口端方向,所述喷嘴内部的喷射通道的宽度依次变窄。

本实用新型的有益效果在于:

通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口,使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀,提高蒸镀的均匀性;通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜,由于坩埚本体侧壁的倾斜设置,使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布,从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性;本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

附图说明

图1所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的结构示意图;

图2所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图;

图3所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图;

图4所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图;

标号说明:

1、坩埚本体;

2、坩埚上盖;201、喷射口。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1所示,本实用新型提供的技术方案:

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