[实用新型]一种瓷砖淋釉装置

说明书

本实用新型提出来一种瓷砖淋釉装置，主要用于瓷砖施釉工作，包括用于储存釉料的釉料筒、用于淋釉的淋釉机构，淋釉机构设置在传送装置的上方，淋釉装置包括钟罩式釉料展盘和设置在釉料展盘上方的淋釉漏斗，在釉料筒内设有釉料泵并通过进料管连接至淋釉漏斗；釉料展盘之上设有用于调节施釉面积的调节器，包括第一阻挡板、第二阻挡板和将上述两条阻挡板连接的收缩部。本实用新型的有益效果是:该淋釉装置能够十分便利的调节施釉面积，有效的提高了生产力。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖加工设备领域，具体是一种瓷砖淋釉装置。

背景技术

釉面砖在制作过程中，施釉是其中最重要的步骤之一，施釉的工艺质量能够最终决定瓷砖的成品质量。目前普遍应用的施釉方法有三种：喷釉、浸釉和淋釉。由于喷釉容易施釉不均，浸釉又容易导致釉层过厚，因此淋釉是普遍优选的实施方式。但目前的瓷砖淋釉产线，一般一条只能适应一种尺寸的瓷砖的施釉，当面对不同尺寸的瓷砖施釉时需要暂停产线，更换不同尺寸的施釉盘，使之适应不同尺寸瓷砖的施釉，降低了生产线的生产效率。且在淋釉过程中釉料的喷淋及回收效率较低，造成釉料的浪费严重。

实用新型内容

针对上述不足，本实用新型提出来一种瓷砖淋釉装置，该淋釉装置能够十分便利的调节施釉面积，有效的提高了生产力，且釉料回收便利。

为了实现上述技术目的，本实用新型是通过如下技术方案来实现的：一种瓷砖淋釉装置，包括用于储存釉料的釉料筒、用于淋釉的淋釉机构，淋釉机构设置在传送装置的上方；所述淋釉机构包括钟罩式釉料展盘和设置在釉料展盘上方的淋釉漏斗，在所述釉料筒内设有釉料泵并通过进料管连接至所述淋釉漏斗；所述釉料展盘之上设有用于调节施釉面积的调节器，所述调节器包括收缩部和设置在所述收缩部两端的第一阻挡板、第二阻挡板。

上述技术方案中，所述釉料展盘由铁质材料制成，所述第一阻挡板、第二阻挡板内部分别设有磁铁。

上述技术方案中，所述釉料展盘顶部凸起形成圆台，所述淋釉漏斗设置在所述圆台的上方，所述收缩部将所述圆台部分包围。

上述技术方案中，在所述传送装置的下方与釉料展盘相对的位置设有回收盘，在回收盘的最低点设有回流口并通过回收管连接至所述釉料筒内。

上述技术方案中，所述釉料筒上方设置有搅拌电机，电机轴穿入釉料筒内部并设有叶轮。

本实用新型的有益效果是：釉料展盘上设置调节器，通过调节第一阻挡板与第二阻挡板之间的夹角，进而调节施釉面积，调节十分便利，有效的提高了生产力；且釉料回收便利，不易造成釉料浪费。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的结构示意图。

图3为本实用新型釉料展盘和调节器的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与实施例来对本实用新型做出进一步详细描述。

结合图1-3，一种瓷砖淋釉装置，包括用于储存釉料的釉料筒1、用于淋釉的淋釉机构2，淋釉机构2设置在传送装置3的上方，包括钟罩式釉料展盘20和设置在釉料展盘20上方的淋釉漏斗21，在釉料筒1内设有釉料泵10并通过进料管11连接至淋釉漏斗21。如此设置，釉料筒1内的釉料经过釉料泵10、进料管11源源不断的输送至淋釉漏斗21内，釉料自然向下流出并在釉料展盘20表面形成釉帘，以此完成淋釉操作。