[实用新型]同轴光路结构以及激光雕刻设备

权利要求书

1.一种同轴光路结构，其特征在于，包括：

激光器(100)；

光路组件(200)，接收并传播所述激光器(100)发出的激光；

图像定位装置(300)，发射定位光；以及

合束镜(400)，接收所述光路组件(200)发出的激光并反射以形成反射光路，所述合束镜(400)还透射所述图像定位装置(300)发出的定位光以形成透射光路，所述反射光路和所述透射光路同轴并共同作用在工件的待加工区域(a)。

2.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，所述激光器(100)、图像定位装置(300)和合束镜(400)相互固定连接，以使所述同轴光路结构工作前后，所述激光器(100)、图像定位装置(300)和合束镜(400)的相对位置不变。

3.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，所述激光器(100)包括分别与所述光路组件(200)可拆卸连接地、发射不同波段激光的第一激光器(100a)和第二激光器(100b)。

4.根据权利要求3所述的同轴光路结构，其特征在于，所述光路组件(200)至少包括激光输入件(210)、反射镜组件(220)、光阑组件(230)和扩束镜组件(240)，所述第一激光器(100a)和第二激光器(100b)分别与所述激光输入件(210)可拆卸连接。

5.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，所述图像定位装置(300)包括CMOS面阵相机或CCD相机。

6.根据权利要求5所述的同轴光路结构，其特征在于，所述图像定位装置(300)包括发出的定位光的LED定位光源。

7.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，所述合束镜(400)包括玻璃基材和设置在所述玻璃基材上的镀膜。

8.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，还包括用于收集工作产生的废气或灰尘的集尘装置。

9.根据权利要求1所述的同轴光路结构，其特征在于，还包括驱动合束镜(400)升降的升降组件(500)。

10.一种激光雕刻设备，其特征在于，包括：

机架(10)；

工作台(700)，设置在所述机架(10)上；

位移组件(600)，连接所述机架(10)和所述工作台(700)以驱动所述工作台(700)相对所述机架(10)移动；以及设置在所述机架(10)上的激光器(100)、光路组件(200)、图像定位装置(300)和合束镜(400)，所述激光器(100)发出的激光经过光路组件(200)后被所述合束镜(400)反射形成反射光路，所述图像定位装置(300)发出的定位光穿过所述合束镜(400)投射形成投射光路，所述反射光路和所述投射光路同轴以在所述工作台(700)上的工件上聚焦形成光斑(b)。