[实用新型]一种射源装置及放射治疗系统有效
| 申请号： | 202020386954.1 | 申请日： | 2020-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN212466850U | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 陈方正;吴中华;李大梁 | 申请（专利权）人： | 西安大医集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京合智同创知识产权代理有限公司 11545 | 代理人： | 李杰 |
| 地址： | 710018 陕西省西安市经济技术开发区凤城十*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 装置 放射 治疗 系统 | ||
1.一种射源装置，其特征在于，所述射源装置包括：载源体、准直体以及第一屏蔽体，所述载源体包括碗状部以及设置在所述载源体碗状部的局部区域的多个放射源，所述载源体与所述准直体配合控制所述射源装置发射放射线，所述第一屏蔽体设置在所述载源体上且与所述多个放射源对应的位置，用于对所述多个放射源发射的放射线进行第一屏蔽处理。
2.根据权利要求1所述的射源装置，其特征在于，所述载源体还包括凸出于所述碗状部端面的边沿部，所述第一屏蔽体包括对应所述载源体碗状部的第一部分和对应所述边沿部的第二部分。
3.根据权利要求1所述的射源装置，其特征在于，所述第一屏蔽体与所述载源体为采用不同材料的一体化结构。
4.根据权利要求1所述的射源装置，其特征在于，所述第一屏蔽体的宽度为根据所述放射源的辐射量阈值计算获得。
5.根据权利要求1所述的射源装置，其特征在于，所述射源装置还包括第二屏蔽体，所述第二屏蔽体安装至所述载源体以及所述准直体辐射射线的端面上，用于对所述多个放射源发射的放射线进行第二屏蔽处理。
6.根据权利要求5所述的射源装置，其特征在于，所述第二屏蔽体为碗状凸块，所述碗状凸块的碗口端面与所述载源体以及所述准直体辐射射线的端面适配且连接。
7.根据权利要求6所述的射源装置，其特征在于，所述第二屏蔽体包括至少两个屏蔽结构。
8.根据权利要求7所述的射源装置，其特征在于，所述第二屏蔽体包括第一屏蔽结构、第二屏蔽结构、第三屏蔽结构，所述第二屏蔽结构位于中间，所述第一屏蔽结构和所述第三屏蔽结构分别位于所述第二屏蔽结构的左侧和右侧。
9.根据权利要求6所述的射源装置，其特征在于，所述第二屏蔽体的碗口端面与所述载源体连接的部分具有向外侧延展的边沿，所述边沿的宽度根据遮挡连接销所造成射线辐射计算获得。
10.一种放射治疗系统，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的射源装置。
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