[实用新型]一种磁控溅射靶遮挡装置

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射靶遮挡装置，包括反应腔、遮挡板、安装夹、传动杆和第二通道，所述反应腔内部的两侧皆设有遮挡板，所述反应腔的外侧壁上安装有制冷板，所述遮挡板外侧壁的两端皆设有散热环，所述遮挡板的内侧安装有缓存板，所述反应腔的顶端安装有旋转机构，所述遮挡板的底端安装有连接柱，所述反应腔内侧壁的两端安装有连接套管，所述反应腔底端的两侧皆设有升降机构，所述反应腔内侧壁的一端设有第一通道，所述反应腔的外侧壁上设有观察窗。本实用新型提高了蒸镀设备的维护效率，延长了遮挡板的使用寿命，而且降低了镀膜产品的不良率。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射设备领域，具体为一种磁控溅射靶遮挡装置。

背景技术

磁控溅射作为一种镀膜方法，广泛应用在集成电路、液晶显示器以及薄膜太阳能等领域，磁控溅射靶遮挡装置在其使用中起到关键作用，控制镀膜的均匀厚度，因此磁控溅射靶遮挡装置应运而生。

现今市场上的此类磁控溅射靶遮挡种类繁多，基本可以满足人们的使用需求，但是依然存在一定的问题，具体问题有以下几点：

1、传统的磁控溅射靶遮挡安装拆卸步骤较为繁琐，不便与蒸镀设备后期的维护保养；

2、磁控溅射靶遮挡使用时，不断吸收镀层时产生的热量，无法进行热量散发，从而导致缩短遮挡板的使用寿命；

3、传统的磁控溅射靶遮挡使用时，无法根据蒸镀产品的实际情况，调节间隙宽度，从而导致镀膜产品的不良率降低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射靶遮挡装置，以解决上述背景技术中提出磁控溅射靶遮挡装置不便与蒸镀设备后期的维护保养，无法进行热量散发，而且无法根据蒸镀产品的实际情况，调节间隙宽度等问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种磁控溅射靶遮挡装置，包括反应腔、遮挡板、安装夹、传动杆和第二通道，所述反应腔内部的两侧皆设有遮挡板，且遮挡板外侧壁上设有传动杆，并且传动杆通过安装夹与遮挡板相固定，所述反应腔的外侧壁上安装有制冷板，所述遮挡板外侧壁的两端皆设有散热环，且散热环之间通过第一连接管道相互连接，并且散热环通过第二连接管道与制冷板相连通，所述遮挡板的内侧安装有缓存板，所述反应腔的顶端安装有旋转机构，所述遮挡板的底端安装有连接柱，且相邻的连接柱之间缠绕有限位块，所述反应腔内侧壁的两端安装有连接套管，且连接套管的底端延伸至反应腔的外侧，所述反应腔底端的两侧皆设有升降机构，所述反应腔内侧壁的一端设有第一通道，且反应腔靠近第一通道一端的外侧壁上安装有磁控溅射靶材，所述反应腔的外侧壁上设有观察窗，且观察窗的下方安装有控制面板，并且控制面板内部单片机的输出端与制冷板的输入端电性连接。

优选的，所述旋转机构从上到下依次设置有旋转电机、第二齿轮、转轴、第一齿轮以及第三齿轮，所述反应腔的顶端安装有旋转电机，且旋转电机的输出端通过联轴器安装有转轴，并且转轴的底端安装有第一齿轮，所述反应腔内部的顶端安装有第二齿轮，且第一齿轮与第二齿轮相配合。

优选的，所述第二齿轮内部的两端皆安装有第三齿轮，且第三齿轮的底端与传动杆的顶端固定连接。

优选的，所述升降机构从上到下依次设置有固定箱、连接板、旋转块以及丝杆，所述反应腔底端的两侧皆安装有固定箱，且固定箱的内部设有丝杆，并且丝杆的一端延伸至固定箱的外侧。

优选的，所述丝杆外侧的两端皆安装有旋转块，且旋转块的顶端铰接有连接板，并且连接板的底端与连接套管的底端相铰接。

优选的，所述反应腔远离第一通道一端的内侧壁上设有第二通道，且反应腔靠近第二通道一端的外侧壁上安装有磁控溅射靶。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该磁控溅射靶遮挡装置不仅提高了蒸镀设备的维护效率，延长了遮挡板的使用寿命，而且降低了镀膜产品的不良率；