[实用新型]一种新型地漏结构

权利要求书

1.一种新型地漏结构，其特征在于：包括具有过水腔的地漏本体、配合在所述过水腔上开口的地漏面盖、配合在所述过水腔下开口的内芯组件；其中，所述内芯组件密封配合在所述过水腔的下开口，其上端设置有若干凸块，且至少一凸块的外侧设置有凹槽。

2.如权利要求1所述的一种新型地漏结构，其特征在于：

还包括密封圈，该密封圈套置在所述内芯组件的外壁，并密封配合在所述内芯组件与所述过水腔的下开口之间。

3.如权利要求2所述的一种新型地漏结构，其特征在于：

所述过水腔的下开口周缘设置有一圈安装台阶，所述内芯组件的上端周缘设置有一圈与所述安装台阶匹配的凸缘，所述密封圈贴合在所述安装台阶和凸缘之间。

4.如权利要求1所述的一种新型地漏结构，其特征在于：

所述凸块沿所述内芯组件的圆周方向等角度间隔设置在所述内芯组件的上端。

5.如权利要求4所述的一种新型地漏结构，其特征在于：

所述凸块的数量为两个，且两个凸块上都设置有所述凹槽。

6.如权利要求1至5任一所述的一种新型地漏结构，其特征在于：

所述过水腔的下开口内壁设置有内螺纹，所述内芯组件的外周设置有与所述内螺纹匹配的外螺纹，以使所述内芯组件与所述地漏本体螺纹连接。