[实用新型]高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃

权利要求书

1.一种高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板、第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层，所述第一电介质干涉层、增透层、半导体低辐射层、合金光吸收层、电介质抗氧化层、第二电介质干涉层、第三电介质干涉层、第一复合介质保护层和第二复合介质保护层依序叠层设置于所述玻璃基板上。

2.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质干涉层为非金属氮化物纳米膜层或非金属氧化物纳米膜层。

3.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质干涉层的厚度为20nm～40nm。

4.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述增透层为锌铝合金纳米膜层。

5.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述增透层的厚度为10nm～20nm。

6.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述半导体低辐射层的厚度为18nm～25nm。

7.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述合金光吸收层的厚度为50nm～60nm。

8.根据权利要求1所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述电介质抗氧化层的厚度为15nm～25nm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质干涉层和所述第三电介质干涉层均为金属氧化物纳米膜层、非金属氧化物纳米膜层、金属氮化物纳米膜层、非金属氮化物纳米膜层、合金氧化物纳米膜层或合金氮化物纳米膜层；所述第二电介质干涉层和所述第三电介质干涉层的厚度均为1nm～2nm。

10.根据权利要求1～8任一项所述的高遮阳低传热被动式离线镀膜玻璃，其特征在于：所述第一复合介质保护层和所述第二复合介质保护层均为非金属氮化物纳米膜层或非金属氧化物纳米膜层，且所述第一复合介质保护层和所述第二复合介质保护层的厚度均为30nm～40nm。