[实用新型]一种大图型花式反光图案上胶装置

说明书

本实用新型公开了一种大图型花式反光图案上胶装置，包括上压辊、凹版上胶辊、刮胶刀及用于储存并提供胶水的供胶机构，刮胶刀位于凹版上胶辊一侧，刮胶刀口与凹版上胶辊表面接触，凹版上胶辊表面设有花型图案，所述的凹版上胶辊置于供胶机构内并与供胶机构内的胶水接触；所述的花型图案被分割成若干微型多边形结构凹槽或者由若干微型多边形结构凹槽组合而成，所述的微型多边形结构凹槽之间由微型薄壁阻隔，所述的微型薄壁相互之间彼此连接，所述的微型薄壁的壁厚形成流平间隙。该上胶装置，用相同的、相互连接的不间断地连续小图案，通过微型多边形结构凹槽内部胶水的流平作用填补微型薄壁壁厚形成的流平间隙，实现了花型图案满图式涂胶转移。

技术领域

本实用新型涉及反光材料生产技术领域，更具体的说涉及一种大图型花式反光图案上胶装置。

背景技术

现有技术中的反光材料制作工艺中使用的凹版上胶辊是通过腐蚀的方法制作上胶凹坑，因为同一辊面的花型图案有大有小，在腐蚀制辊时，面积大的图案腐蚀的深度深，面积小的图案腐蚀的深度浅。腐蚀深的地方上胶量大，浅的地方上胶量小，反映在产品出现胶层厚度不均匀，从而产生产品质量问题，为保证产品质量，要求在制作时以小图案的深度为基准，这样大图案的深度过深，耗胶量大，产生浪费，同时由于上胶量大，容易产生图案溢胶的问题。

原凹版上胶辊上胶凹坑的大小，是由图案大小决定——图案大的上胶凹坑面积也大。由于凹坑面积大，胶辊在上胶凹坑中的变形量大，把上胶凹坑中的胶水挤出凹坑后，产生图案溢胶的问题。图案越大，产品的溢胶问题越严重。所以原凹版上胶对图案的大小有限制，不能生产大花纹的图案。

原凹版上胶辊图案中有横向的线段，由于刮胶刀刀口和横向线段重叠，在压力的作用下，刮胶刀刀口变形，伸入横向线段的上胶凹坑中，把上胶凹坑中的胶水刮走，使这处产生缺胶，反映到产品时，这线段出现断胶。

为此，申请人设计了在先专利201610502217.1，通过N个小圆点构成一个大图案进行上胶的结构，解决了花式反光面料生产过程中出现的上胶层厚度不均匀、图案溢胶及图案断胶等问题。但却改变了客户的设计风格，而且最后形成的大花型图案不连续，有断点，导致客户并不接受。而且原凹版印刷由各个独立的结构单元构成，设计过程无法避免结构单元本身结构对设计带来的难题。

为了综合解决现有技术中的上述问题，本实用新型对上胶的生产工艺做了改变，采用正六边形/三角形/菱形/正方形凹槽替代原有的圆形，从而很好地解决花式反光面料生产过程中出现的上胶层厚度不均匀、图案溢胶及图案断胶等问题；同时也解决了专利201610502217.1方式生产方式对设计风格改变的问题，可以做大花型且最后转移出的大花型图案连续，无断点，保留了原有的设计风格。

实用新型内容

本实用新型的为了解决原凹版上胶辊在制作过程中的深度不均匀的问题；解决生产过程中溢胶问题；解决生产中产生的断胶问题；解决设计风格改变的问题；以及解决图案设计问题；从而提供一种用相同的很小的图案组成设计的大图案、使胶辊在上胶凹坑中的变形可以忽略不计，使刮胶刀刀口在上胶凹坑中的变形很小，不会把上胶凹坑中的胶水带走，通过在设计图案内部填充微结构从而保证设计风格不变，设计图案能完整的呈现的大图型花式反光图案上胶装置。

本实用新型实现其发明目的所采用的技术方案是：一种大图型花式反光图案上胶装置，包括上压辊、凹版上胶辊、刮胶刀及用于储存并提供胶水的供胶机构，所述的刮胶刀位于凹版上胶辊一侧，刮胶刀口与凹版上胶辊表面接触，所述的凹版上胶辊表面设有花型图案，所述的凹版上胶辊置于供胶机构内并与供胶机构内的胶水接触；所述的花型图案被分割成若干微型多边形结构凹槽或者由若干微型多边形结构凹槽组合而成，所述的微型多边形结构凹槽之间由微型薄壁阻隔，所述的微型薄壁相互之间彼此连接，所述的微型薄壁的壁厚形成流平间隙。花型图案通过微型多边形结构凹槽内部胶水的流平作用填补微型薄壁壁厚形成的流平间隙以实现花型图案满图式涂胶转移。