[实用新型]用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置有效
申请号: | 202020406948.8 | 申请日: | 2020-03-26 |
公开(公告)号: | CN212025452U | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 湖南兴晟新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/458 |
代理公司: | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 412000 湖南省株洲市石峰区联诚*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制备 石墨 托盘 cvd sic 涂层 水平 悬挂 旋转 装置 | ||
1.一种用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,包括:
旋转组件,所述旋转组件设置有一大支撑旋转轴,所述大支撑旋转轴底部设置有一突出轴,所述大支撑旋转轴通过所述突出轴穿设在一炉底,所述突出轴穿过所述炉底固定设置在一炉外承力装置内;
承载组件,所述承载组件设置有一大承重板和四根支架,所述大承重板固定设置在所述大支撑旋转轴的上端,四根所述支架竖直设置在所述大承重板上,四根所述支架上设置有多层承重板,每个所述承重板的中心均开设有中心孔,每个所述中心孔内均穿设有一挂钩,每个挂钩的下端均挂设有石墨托盘。
2.根据权利要求1所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述大承重板与多层所述承重板上的四周均开设有三个定位孔以及一个活动定位卡槽,所述大承重板与多层所述承重板上的所述活动定位卡槽同向开设。
3.根据权利要求2所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,三根所述支架穿设在所述定位孔内,三根穿设在所述定位孔内的所述支架均通过定位螺母与所述大承重板固定安装,所述承重板通过所述定位螺母固定安装在三根所述支架上,剩余的一根所述支架活动地竖直插设在所述活动定位卡槽内,并用所述定位螺母将所述支架与所述承重板进行固定。
4.根据权利要求3所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述挂钩、承重板、大承重板、定位螺母、支架和大支撑旋转轴由高纯石墨或C/C复合材料加工而成。
5.根据权利要求1所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述挂钩的上部设置有一定位圆盘,所述挂钩的下部设置有一承力钩。
6.根据权利要求5所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述承重板的所述中心孔的上部设置有一凹槽,所述凹槽的中心开设有通孔。
7.根据权利要求5所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述石墨托盘的底部中间位置设置有一个滑槽通孔固定结构,所述滑槽通孔固定结构由进口槽、滑道和定位槽构成,且所述进口槽处通孔的大小大于所述定位槽处通孔的大小。
8.根据权利要求7所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述承力钩的形状为圆形或椭圆形,且所述进口槽与定位槽的形状与所述承力钩的形状契合。
9.根据权利要求1所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述石墨托盘平行于所述承重板,且所述石墨托盘与所述承重板之间设置有间隙。
10.根据权利要求1所述的用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,其特征在于,所述突出轴与所述炉底之间设置有磁流体密封装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的