[实用新型]一种真空排污系统有效

专利信息
申请号: 202020416559.3 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN212534377U 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 王申贵;王起运 申请(专利权)人: 天津市贝斯特防爆电器有限公司
主分类号: E03F1/00 分类号: E03F1/00;C02F9/04;B02C18/14
代理公司: 南京鼎傲知识产权代理事务所(普通合伙) 32327 代理人: 郭元聪
地址: 300450 天津市滨海*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 排污 系统
【权利要求书】:

1.一种真空排污系统,其特征在于:它包含第一排污管(1)、连接管(2)、上密封圈(21)、下密封圈(22)、上层腔(3)、过滤网(4)、粉碎装置(5)、第一处理层(6)、第一真空管道(7)、第一阀门(71)、第二处理层(8)、第二真空管道(9)、第二阀门(91)、静置层(10)、排污层(11)、第二排污管道(12)、第一药箱(13)、第二药箱(14),所述的第一排污管(1)与连接管(2)相连接,连接管(2)的上端设置有上密封圈(21),连接管(2)的下端设置有下密封圈(22),连接管(2)与上层腔(3)相连接,上层腔(3)的内部设置有粉碎装置(5),上层腔(3)的下方设置有过滤网(4),过滤网(4)的下方设置有第一处理层(6),第一处理层(6)与第一真空管道(7)的一端相连接,第一真空管道(7)的另一端与第二处理层(8)相连接,第一真空管道(7)上设置有第一阀门(71),第二处理层(8)与第二真空管道(9)的一端相连接,第二真空管道(9)的另一端与静置层(10)相连接,静置层(10)的下方设置有排污层(11),排污层(11)的下端与第二排污管道(12)相连接,第一处理层(6)的右侧设置有第一药箱(13),第二处理层(8)的右侧设置有第二药箱(14)。

2.根据权利要求1所述的一种真空排污系统,其特征在于:所述的粉碎装置(5)包含粉碎轴(51)和粉碎刀片(52),粉碎轴(51)上设置有粉碎刀片(52)。

3.根据权利要求1所述的一种真空排污系统,其特征在于:所述的第二排污管道(12)上设置有第三阀门(121)。

4.根据权利要求1所述的一种真空排污系统,其特征在于:所述的第一药箱(13)上设置有第四阀门(131)。

5.根据权利要求1所述的一种真空排污系统,其特征在于:所述的第二药箱(14)上设置有第五阀门(141)。

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