[实用新型]一种适于藤蔓作物生长的温室大棚有效

专利信息
申请号: 202020435924.5 申请日: 2020-03-31
公开(公告)号: CN211931623U 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 颜俊;刘靖 申请(专利权)人: 武汉交通职业学院
主分类号: A01G9/14 分类号: A01G9/14;A01G9/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430065 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 适于 藤蔓 作物 生长 温室 大棚
【说明书】:

本实用新型公开了一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,其特征在于,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。本实用新型具有,节省种植空间,提高种植藤蔓作物效率的技术效果,可广泛应用于温室大棚制造领域。

技术领域

本实用新型涉及温室大棚制造领域,具体为一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。

背景技术

藤蔓作物的种植往往在传统的种植模式中,采用与其他非藤蔓作物一起混种,且采用人工插接立杆的方式引导藤蔓,或者专门设置立架以供藤蔓攀爬,该传统种植藤蔓作物的方式耗费种植时间,且后期翻新的工作量大。

实用新型内容

本实用新型的发明目的在于提供一种适于藤蔓作物生长的温室大棚。

本实用新型解决上述技术问题所采取的技术方案如下:

一种适于藤蔓作物生长的温室大棚,所述温室大棚为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;

所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆,用于引导藤蔓植物向上生长;

所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆。

优选地,所述第二生长区包括,在所述立方体内部的顶部按照矩形阵列设置若干单独的栽种盒,每个栽种盒间隔设置,且相邻两栽种盒之间通过连杆连接固定,所述藤蔓作物的藤蔓自所述栽种盒之间的空隙伸出下垂至立杆上。

优选地,所述立杆自上而下伸出的末端设置有若干干涉架体,用于搭设所述藤蔓作物的藤蔓。

优选地,所述立方体内的顶部还均衡设置有若干用于喷洒清水的喷嘴。

优选地,所述温室大棚的顶部为透光的塑料体。

本实用新型的有益技术效果包括:

通过设置立杆,以引导藤蔓植物更好地爬蔓生长,且立杆自上而下垂直设置,可多次重复利用,以及设置有第二生长区,使得作物从上面生长时藤蔓垂下依附于立杆上,有效提高了空间利用率。

本实用新型的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过在所写的说明书、权利要求书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

下面结合附图对本实用新型进行详细的描述,以使得本实用新型的上述优点更加明确。

图1是本实用新型温室大棚的整体结构图;

图2是本实用新型立杆位于立方体的的位置结构图;

图3是本实用新型第二生长区的结构示意图;

图4是本实用新型立杆的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型进行详细地说明。

如图1-4所示,一种适于藤蔓作物生长的温室大棚1,所述温室大棚1为密闭的立方体,且立方体的外壁设置若干通风孔;

所述立方体内部的顶部向下垂设有若干立杆4,用于引导藤蔓植物向上生长;

所述立方体内部的顶部还设置有第二生长区2,用于使藤蔓植物垂直向下生长攀爬至若干所述立杆4。

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