[实用新型]头戴显示设备有效
申请号: | 202020450426.8 | 申请日: | 2020-03-31 |
公开(公告)号: | CN211577567U | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 肖家胜;肖冰 | 申请(专利权)人: | 优奈柯恩(北京)科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/01 | 分类号: | G02B27/01 |
代理公司: | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人: | 林锦辉;刘景峰 |
地址: | 100098 北京市海淀区北三环西路43号院2号楼12层1201A、1201B、*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 设备 | ||
本说明书的实施例提供了一种头戴显示设备。在该头戴显示设备中,光学成像装置包括被配置为光路对准的图像源元件、分光元件和反射元件;吸收元件的结构以及所述光学成像装置中的布置位置使得所述吸收元件吸收第一光线区域中的至少部分的杂散光线,且通过第二光线区域的真实场景光线,所述第一光线区域是由人眼镜像位置与所述分光元件的两端来确定的,所述第二光线区域是由人眼位置与人眼视角和所述分光元件的远离所述图像源元件的一端来确定的,其中所述人眼视角包括70°,所述人眼镜像位置为所述人眼位置关于所述分光元件的镜像对称点,可以提高佩戴头戴显示设备的用户体验。
技术领域
本说明书的实施例涉及智能穿戴电子设备领域,具体地,涉及一种头戴显示设备。
背景技术
随着科学技术的不断发展,头戴式显示设备被广泛地应用在人们的日常生活、娱乐和工作当中,通过头戴式显示设备可以利用光学成像系统放大超微显示屏上的图像来将影像投射于视网膜上,进而在观看者眼中呈现大屏幕虚拟图像。
目前,头戴显示设备在显示虚拟图像的时候,一些非期望的光线(即,杂散光)会照射到光学成像器件上,导致杂散光所携带的图像信息会影响用户所看到的虚拟图像的成像质量,降低了头戴显示设备的用户体验。
针对上述问题,目前业界暂无较佳的解决方案。
实用新型内容
鉴于上述问题,本说明书的实施例提供了一种头戴显示设备。利用该头戴显示设备,第一光线区域的杂散光线会被吸收元件吸收掉,从而消除了通过分光镜反射至人眼的杂散光线,另外第二光线区域的真实场景光线不会被遮挡,使得用户在观看高质量的成像图像的同时还可以看到外部的真实场景,提高了头戴显示设备的用户体验。
根据本说明书实施例的一个方面,提供了一种头戴显示设备,包括:光学成像装置,包括被配置为光路对准的图像源元件、分光元件和反射元件;吸收元件,所述吸收元件的结构以及所述光学成像装置中的布置位置使得所述吸收元件吸收第一光线区域中的至少部分杂散光线,且通过第二光线区域的真实场景光线,所述第一光线区域是由人眼镜像位置与所述分光元件的两端来确定的,所述第二光线区域是由人眼位置与人眼视角和所述分光元件的远离所述图像源元件的一端来确定的,其中所述人眼视角包括70°,所述人眼镜像位置为所述人眼位置关于所述分光元件的镜像对称点。
可选地,在上述方面的一个示例中,所述吸收元件可以包括基底和多个吸收结构,各个所述吸收结构顺序间隔布置,由所述人眼镜像位置和各个所述吸收结构所确定的区域至少可以覆盖所述第一光线区域的一部分,并且由所述人眼位置和至少一个间隙所确定的区域覆盖所述第二光线区域的真实场景光线,其中所述间隙是由相邻的吸收结构之间的间隔而形成的;所述基底的布置位置可以使得所述基底透过所述真实场景光线。
可选地,在上述方面的一个示例中,所述吸收元件所处的平面可以通过所述人眼位置和所述分光元件的所述远离所述图像源元件的一端,并且由所述人眼镜像位置和所述吸收元件的两端所确定的区域可以覆盖所述第一光线区域。
可选地,在上述方面的一个示例中,所述各个吸收结构相对于所述光学成像装置的主光轴的倾斜角度可以是在视线角度范围内的,所述视线角度范围中的最小视线角度是由所述人眼位置和所述分光元件的所述远离所述图像源元件的一端来确定的,所述视线角度范围中的最大视线角度是由所述人眼位置和所述人眼视角来确定的。
可选地,在上述方面的一个示例中,由顺序间隔布置的所述各个吸收结构中相邻的第一吸收结构的第一端和第二吸收结构的第二端而形成的吸光接合区域通过所述人眼镜像位置,所述第一吸收结构的第一端与所述第二吸收结构的第二端彼此靠近,且所述第一吸收结构的第二端与所述第二吸收结构的第一端彼此远离。
可选地,在上述方面的一个示例中,所述各个吸收结构所处的平面可以通过所述人眼位置。
可选地,在上述方面的一个示例中,所述各个吸收结构所处的平面可以相互平行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于优奈柯恩(北京)科技有限公司,未经优奈柯恩(北京)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020450426.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高耐压型共模电感及共模滤波器
- 下一篇:一种定子叠片一体式结构