[实用新型]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 202020462375.0 申请日: 2020-04-02
公开(公告)号: CN211506002U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 张永明;赖建勋;刘燿维 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18;G02B13/14;G02B1/04
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 贾慧琴;周乃鑫
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包含:

第一透镜,具有屈折力;

第二透镜,具有屈折力;

第三透镜,具有屈折力;

第四透镜,具有屈折力;

第五透镜,具有屈折力;

第六透镜,具有屈折力;以及

红外光成像面;

其中,所述的光学成像系统具有屈折力的透镜为六枚,所述的第一透镜至所述的第六透镜中至少一透镜具有正屈折力,所述的光学成像系统的焦距为f,所述的光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述的第六透镜像侧面出光瞳直径为HXP,所述的光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述的第一透镜至所述的第六透镜于1/2HXP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,所述的第一透镜至所述的第六透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6,前述TP1至TP6的总和为STP,其满足下列条件:0.5≤f/HEP≤1.8;0degHAF≤50deg以及0.2≤SETP/STP1。

2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的红外光的波长介于700nm至1300nm以及第一空间频率以SP1表示,其满足下列条件:SP1≤440cycles/mm。

3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的红外光的波长介于850nm至960nm以及第一空间频率以SP1表示,其满足下列条件:SP1≤220cycles/mm。

4.如权利要求3所述的光学成像系统,其特征在于,所述的第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述的红外光成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述的第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述的第六透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL1。

5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述的第六透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.2≤SETP/EIN1。

6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的第一透镜与所述的第二透镜之间于光轴上的距离为IN12,所述的第三透镜与所述的第四透镜之间于光轴上的距离为IN34,其满足下列条件:IN12IN34。

7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的第四透镜与所述的第五透镜之间于光轴上的距离为IN45,所述的第五透镜与所述的第六透镜之间于光轴上的距离为IN56,其满足下列条件:IN56IN45。

8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述的第三透镜与所述的第四透镜之间于光轴上的距离为IN34,所述的第四透镜与所述的第五透镜之间于光轴上的距离为IN45,其满足下列条件:IN45IN34。

9.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,更包括光圈,并且于所述的光圈至所述的红外光成像面于光轴上具有一距离InS,所述的第一透镜物侧面至所述的红外光成像面于光轴上具有一距离HOS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。

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