[实用新型]一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置有效

专利信息
申请号: 202020468469.9 申请日: 2020-04-02
公开(公告)号: CN212497128U 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 谢启明;耿朝红;尹国良;张敬东;赵逸群;应常宇;胡忠 申请(专利权)人: 云南北方驰宏光电有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/00;F16B11/00
代理公司: 北京东灵通专利代理事务所(普通合伙) 61242 代理人: 韩战涛
地址: 655000 *** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 高精度 形变 抛光 上盘 装置
【权利要求书】:

1.一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,包括粘接模、粘接剂、定位环及定位座;所述粘接剂为圆环结构,粘接于所述粘接模的一端面;所述定位环的周边具有翻边,中部开设有与粘接模形状相应的中心孔;所述定位座的表面设置限位环,所述限位环的形状与定位环的翻边形状相应,且与中心孔同轴;待抛光锗窗置于所述限位环内,所述定位环扣接于限位环的外部,所述粘接模具有粘接剂的一端依次穿过中心孔及限位环,通过所述粘接剂与锗窗固定。

2.根据权利要求1所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述粘接剂的圆环中心线直径d由待抛光锗窗的直径决定,并满足关系式:d=kD,k为经验系数,取值范围0.4-0.5,D为锗窗的直径;所述粘接剂的圆环宽度w由待抛光锗窗的直径决定,锗窗的直径Φ≤100mm时,w=20±3mm,100mm<锗窗的直径Φ≤200mm时,w=30±5mm;所述粘接剂的厚度t的范围为10±5mm。

3.根据权利要求2所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述粘接剂为圆环形状,置于粘接模圆周但不超出粘接模边缘。

4.根据权利要求3所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述粘接剂的圆环截面为梯形,与所述粘接模接触的为梯形下边,与所述锗窗接触的为梯形上边。

5.根据权利要求4所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述定位座为圆形并与限位环同轴,所述定位环的翻边高度大于限位环的高度,所述定位环的翻边高度、限位环的高度均大于锗窗的厚度。

6.根据权利要求5所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述限位环开设多个开口,多个所述开口呈圆形阵列排布于限位环,通过所述开口放置和取出锗窗。

7.根据权利要求6所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述限位环内放置锗窗的底面铺垫一层软质材料,所述软质材料为绵纸或抛光布,用于避免锗窗在放置或取出时和金属夹具碰撞崩边。

8.根据权利要求7所述的一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置,其特征在于,所述定位环的中心孔直径大于粘接模直径1-2mm。

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