[实用新型]一种低光泽度胶带基膜

权利要求书

1.一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，包括基膜层(1)、胶层(2)和离型层(3)，所述基膜层(1)、所述胶层(2)和所述离型层(3)按照从上到下的顺序依次叠置复合，所述基膜层(1)和所述胶层(2)之间还复合设有消光层(4)，所述消光层(4)是以均聚聚丙烯为载体的二氧化硅消光材料层，所述基膜层(1)上表面设有漫反射层(5)，所述漫反射层(5)包括硅酸乙酯粒子层(6)和设置所述硅酸乙酯粒子层(6)下层的碳化硅粒子层(7)。

2.根据权利要求1所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述基膜层(1)为聚丙烯层。

3.根据权利要求1所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述基膜层(1)为经过电晕处理的基膜层。

4.根据权利要求1所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述消光层(4)为经过电晕处理的消光层。

5.根据权利要求1所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述消光层(4)和所述胶层(2)之间设有抗菌层(8)。

6.根据权利要求5所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述抗菌层(8)为凝胶衬垫。

7.根据权利要求1所述的一种低光泽度胶带基膜，其特征在于，所述胶层(2)为压敏胶层,所述离型层(3)为离型膜。