[实用新型]一种智能一体化射流超低温等离子体材料处理设备

说明书

本实用新型公开了一种智能一体化射流超低温等离子体材料处理设备，涉及等离子体处理技术领域，包括安装座、等离子发生器和处理台，等离子发生器焊接在安装座顶部，处理台焊接在安装座底部一侧，安装座顶部还焊接有气源、截流阀和流量计，气源、截流阀和流量计依次通过导管连通，安装座底部焊接有支撑架，等离子发生器的出口处焊接有发射管，流量计通过进气管与发射管连通，发射管底部焊接有保护罩，发射管内焊接有固定喷盘，处理台顶部通过电动伸缩杆焊接有升降台，本实用新型结构合理，通过等离子发生器配合气源实现基本的等离子体材料处理功能，具有多种处理模式，可实现不同的处理需求，满足更多客户需求，实用性较强。

技术领域

本实用新型涉及等离子体处理技术领域，特别涉及一种智能一体化射流超低温等离子体材料处理设备。

背景技术

等离子体中存在大量的活性粒子，比通常的化学反应器所产生的活性粒子种类更多活性更强，更易于和所接触的材料表面以及各类气体发生反应。因此，在材料、环保等领域有着极其广泛的应用前景，比如材料表面改性、等离子体刻蚀、固体薄膜沉积、灭菌消毒、空气净化、大气污染处理等等，其中在材料处理方面等离子体处理方法具有独一无二的加工效果，是目前其他技术无法替代的，在未来也必然是较为主流的加工方式之一，当前的等离子体材料处理设备基本结构相对固定，就是简单的将等离子体喷至加工件上，勉强满足使用需求。

但是，当前的等离子体材料处理设备整体结构还是过于简单，在实际使用时仍然存在不足之处，其中就存在加工模式单一的问题，等离子体流喷出的方式过于单一。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种智能一体化射流超低温等离子体材料处理设备，以解决上述背景技术中提出的处理模式单一的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种智能一体化射流超低温等离子体材料处理设备，包括安装座、等离子发生器和处理台，所述等离子发生器焊接在所述安装座顶部，所述处理台焊接在所述安装座底部一侧，所述安装座顶部还焊接有气源、截流阀和流量计，所述气源、所述截流阀和所述流量计依次通过导管连通，所述安装座底部焊接有支撑架，所述等离子发生器的出口处焊接有发射管，所述流量计通过进气管与所述发射管连通，所述发射管底部焊接有保护罩，所述发射管内焊接有固定喷盘，所述处理台顶部通过电动伸缩杆焊接有升降台，所述安装座一侧通过电源线设置有电源插头。

优选的，所述升降台顶部胶接有密封垫圈。

优选的，所述发射管内开设有环形卡槽和调节槽，所述调节槽位于所述环形卡槽一侧。

优选的，所述环形卡槽内活动设置有卡环，所述卡环内焊接有活动喷盘，所述卡环的外边侧开设有啮合槽。

优选的，所述调节槽内焊接有调节电机，所述调节电机的输出轴上安装有传动齿轮，所述传动齿轮通过所述啮合槽与所述卡环啮合。

优选的，所述活动喷盘内开设有透气槽和通气孔。

优选的，所述固定喷盘上开设有四个不同直径的透气孔，单个所述透气孔、所述透气槽和所述通气孔的分布面积相同。

本实用新型的技术效果和优点：

本实用新型通过等离子发生器配合气源实现基本的等离子体材料处理功能，具有多种处理模式，可实现不同的处理需求，满足更多客户需求，实用性较强。

附图说明

图1为本实用新型的剖视图。

图2为本实用新型中固定喷盘部分的局部放大图。

图3为本实用新型中固定喷盘的结构示意图。

图4为本实用新型中活动喷盘的结构示意图。