[实用新型]一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版

说明书

本实用新型公开了一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版，所述阵列基板包括第一衬底基板、依次层叠设置在第一衬底基板上的薄膜晶体管阵列层和保护层，还包括通过半色调掩膜版形成的主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物和辅隔垫物对应形成在薄膜晶体管阵列层的上方，其中半色调掩膜版包括掩膜基板、设置在掩膜基板一侧的遮光层，所述遮光层包括全透孔和网格孔。实施本实用新型，利用网格孔阻挡光透过的量实现半透效果，可以节省现有技术中在半透区域先开全透孔再镀一层半透膜的工艺，有效节省了制作成本。

技术领域

本实用新型涉及半色调掩膜版技术领域，更具体地涉及一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版。

背景技术

在TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)制程中，柱状隔垫物是液晶显示器制程中的一个关键工序，用于支撑隔开彩膜基板和阵列基板。曝光是柱状隔垫物工序的重要制程，掩膜版(Mask)是曝光的一个基本工具。由于小尺寸液晶显示面板上一般同时有主隔垫物和辅隔垫物两种高度不同的隔垫物，如果使用两道掩膜版曝光分别制作主隔垫物和辅隔垫物，则会导致柱状隔垫物工序的产能减少一半，同时也会造成光刻胶和显影液等物料的加倍损耗。因此，通常只使用一道掩膜版曝光制作主隔垫物和辅隔垫物。

实用新型内容

为了解决所述现有技术的不足，本实用新型提供了一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版，利用网格孔阻挡光透过的量实现半透效果，可以节省现有技术中在半透区域先开全透孔再镀一层半透膜的工艺，有效节省了制作成本。

本实用新型所要达到的技术效果通过以下方案实现：一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版，所述阵列基板包括第一衬底基板、依次层叠设置在第一衬底基板上的薄膜晶体管阵列层和保护层，还包括通过半色调掩膜版形成的主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物和辅隔垫物对应形成在薄膜晶体管阵列层的上方，其中半色调掩膜版包括掩膜基板、设置在掩膜基板一侧的遮光层，所述遮光层包括全透孔和网格孔。

优选地，所述网格孔的开孔密度使网格孔的透光率在10%-45%之间。

优选地，所述主隔垫物与辅隔垫物的高度差为0.3μm～0.8μm。

优选地，所述掩膜基板的材质为石英或者玻璃。

优选地，所述掩膜基板的厚度为6mm～12mm。

优选地，所述全透孔和网格孔的开口形状为正八边形及以上多边形形状。

本实用新型具有以下优点：

1、本发明实施例采用将主隔垫物和辅隔垫物形成在阵列基板的薄膜晶体管阵列层上，可以增加主隔垫物和辅隔垫物与阵列基板的接触面积，提升阵列基板的抗压能力，同时利用网格阻挡光透过的量实现半透效果，可以节省现有技术中在半透区域先开全透孔再镀一层半透膜的工艺，有效节省了制作成本。

附图说明

图1为本实用新型中一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版的结构示意图；

图2为本实用新型中阵列基板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。