[实用新型]双缓冲型光阻液喷涂系统

说明书

一种双缓冲型光阻液喷涂系统，其特征在于，包括：第一储液罐，第一过滤器；第一缓冲器；所述第一过滤器设置于所述第一储液罐与所述第一缓冲器之间；所述第一缓冲器连接有第一回抽管；所述第一回抽管安装有第一回抽泵；第二储液罐；第二过滤器；第二缓冲器；所述第二过滤器设置于所述第二储液罐与所述第二缓冲器之间；所述第二缓冲器连接有第二回抽管；所述第二回抽管安装有第二回抽泵；还包括以下两种结构的其中一种：第一种结构，包括选择机构和总光阻液泵；第二种结构，包括选择机构、第一光阻液泵和第二光阻液泵。所述双缓冲型光阻液喷涂系统能够更好地节省光阻液，并且保证光阻液供应不停机。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种双缓冲型光阻液喷涂系统。

背景技术

光阻液涂布(Coating)在半导体制造的领域中，扮演着相当重要的角色。例如在蚀刻制程中，光阻层被当作被蚀刻薄膜的罩幕，用以保持所需图案不被蚀刻反应去除。又如在离子植入(离子注入)制程中，光阻层也具备罩幕的功能，使掺杂只掺入到预定的区域中。

光阻液喷涂系统主要包括：第一储液罐、第一缓冲器、第一光阻液泵、过滤器、控制阀以及喷嘴等结构。从第一储液罐供应出的光阻液，先进入第一缓冲器，再通过第一光阻液泵将第一缓冲器中的光阻液抽出，经由过滤器过滤后，借由控制阀来控制光阻液由喷嘴喷出所需流量。光阻液由喷嘴喷出至放至于旋转涂布机(Spin Coater)的芯片(晶圆)上，使旋转涂布机带动芯片旋转，借由离心力使光阻液能均匀的涂布于芯片表面。

然而，在光阻液涂布制程中，经常因为光阻液内产生气泡或杂质而引起芯片涂布的覆盖不良(Poor Coating)与平坦度不佳(Range too Hight)现象，这将导致芯片的蚀刻良率或可靠度降低，情况严重者甚至造成芯片报废。

因此，需要定期更换过滤器以确保过滤品质。

目前，过滤器的更换，经常是固定频率为每三个月更换一次，且过滤器更换时，都需要经过光阻液流通过的预湿程序，以排出500mL到l000mL量的光阻液，湿润过的过滤器才可以正常使用。

然而，过滤器在预湿过程中，会因速度、压力或温度的影响产生气泡。若直接进行涂布作业势必影响涂布效果。若在预湿后再进行排气作业，又会多耗费时间，并增加光阻液使用成本，使得替换过滤器成为一项耗时耗成本的程序。

实用新型内容

本实用新型解决的问题是，提供一种双缓冲型光阻液喷涂系统，以在预湿过滤器后，在系统中就把预湿过程产生的微气泡排除，从而防止额外消耗光阻液，并节省作业时间。

为解决上述问题，本实用新型提供了一种双缓冲型光阻液喷涂系统，包括：第一储液罐，用于储存和供应光阻液；第一过滤器，用于过滤光阻液的杂质；第一缓冲器，用于排除光阻液的微气泡，并用于缓存和提供光阻液；所述第一过滤器设置于所述第一储液罐与所述第一缓冲器之间；所述第一缓冲器连接有第一回抽管，所述第一回抽管第一端伸入所述第一缓冲器内部，第二端连接至所述第一过滤器前端；所述第一回抽管安装有第一回抽泵；所述第一回抽管和所述第一回抽泵用于将所述第一缓冲器内的光阻液回抽至所述第一过滤器前端；第二储液罐，用于储存和供应光阻液；第二过滤器，用于过滤光阻液的杂质；第二缓冲器，用于排除光阻液的微气泡，并用于缓存和提供光阻液；所述第二过滤器设置于所述第二储液罐与所述第二缓冲器之间；所述第二缓冲器连接有第二回抽管，所述第二回抽管第二端伸入所述第二缓冲器内部，第二端连接至所述第二过滤器前端；所述第二回抽管安装有第二回抽泵；所述第二回抽管和所述第二回抽泵用于将所述第二缓冲器内的光阻液回抽至所述第二过滤器前端；还包括以下两种结构的其中一种：第一种结构，包括选择机构和总光阻液泵；所述选择机构用于从所述第一缓冲器和所述第一缓冲器内选择光阻液；所述总光阻液泵用于将所选择的光阻液输送至使用端；第二种结构，包括选择机构、第一光阻液泵和第二光阻液泵；所述选择机构用于从所述第一缓冲器和所述第二缓冲器内选择光阻液；所述第一光阻液泵用于将所述第一缓冲器内的光阻液输送至使用端，所述第二光阻液泵用于将所述第二缓冲器内的光阻液输送至使用端。