[实用新型]等离子处理真空腔体结构

权利要求书

1.一种等离子处理真空腔体结构，其特征在于，包括绝缘体、电极板、第一腔体和与所述第一腔体相配合的第二腔体，所述绝缘体设置于所述第一腔体内，所述电极板设置于所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上，所述第一腔体、第二腔体围成等离子处理空间。

2.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上设有与所述电极板相适配的第一凹陷位。

3.根据权利要求2所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，还包括导电条，所述绝缘体靠近电极板的一侧面上设有与所述导电条相适配的第二凹陷位，所述导电条与所述电极板电性导通。

4.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述绝缘体的材质为陶瓷，且所述绝缘体的厚度大于或等于20mm。

5.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述第一腔体内设有进气管，所述进气管靠近所述第一腔体的内侧壁设置，所述进气管的形状为U形，所述进气管相对的两边上均设有进气孔，且相对的两边上的进气孔错位设置。

6.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，还包括密封件，所述第一腔体靠近第二腔体的一侧面上设有凹槽，所述密封件设置于所述凹槽内。

7.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述第一腔体上设有导电柱，所述第二腔体通过所述导电柱与所述第一腔体电性导通。

8.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述第一腔体上设有视窗结构。

9.根据权利要求1所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述第一腔体上设有法兰，所述法兰与所述等离子处理空间连通。

10.根据权利要求9所述的等离子处理真空腔体结构，其特征在于，所述第一腔体的内侧壁上还设有布气板，所述布气板与所述法兰对应设置，且所述布气板与法兰之间留有间隙。