[实用新型]粉体表面包覆机的粉体盛放机构和一种粉体表面包覆机有效

专利信息
申请号: 202020503200.X 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN212348679U 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 刘彦烽;赵茂生;王韫宇 申请(专利权)人: 厦门韫茂科技有限公司
主分类号: B01J19/00 分类号: B01J19/00
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 陈槐萱
地址: 361000 福建省厦门市软件*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 体表 面包 盛放 机构 一种
【说明书】:

本实用新型提供了一种粉体表面包覆机的粉体盛放机构,涉及粉体表面包覆技术领域。其中,这种粉体表面包覆机的粉体盛放机构,其可拆卸的配置于设置有第一气道的转轴。粉体盛放机构包含:内置有用以盛放粉体的反应腔和连通于反应腔的进气口和出气口的内桶、分别可拆卸的配置于进气口和出气口一对过滤件、可拆卸的配置于内桶和转轴且用以连通进气口和第一气道的连接管道。通过连接管道将内桶的进气口直接与转轴的第一气道相连通,以保证供气装置的输出气体能够直接输送到内桶的反应腔内,直接与粉体接触,而不再是传统反应气体自由扩散到反应腔中与粉体接触。大大提高了粉体与反应气体的接触效率,保证了包覆层的质量。

技术领域

本实用新型涉及粉体表面包覆领域,具体而言,涉及一种粉体表面包覆机的粉体盛放机构和一种粉体表面包覆机。

背景技术

粉体表面包覆是通过表面化学反应来实现的,一般有机械搅拌融合法、化学溶液反应法,以及气相反应法三种方法。其中气相反应法主要包括原子层沉积法(ALD)、化学气相沉积(CVD),以及分子层沉积法(MLD)。粉体表面包覆机是实现气相反应法粉体表面包覆的常用设备。目前表面包覆机普遍采用固定的外支撑桶和转动的内反应桶作为反应装置,并将供气装置和抽气装置连通于外支撑桶的内腔,来输送和排出反应的气体,气体进入内腔后自由扩散到内桶的反应腔内,并在粉体表面发生反应形成包覆层。但是传统的连接结构导致气体在进入外支撑桶的内腔后,不能迅速的进入内反应桶,导致最终制得的产品质量参差不齐。特别是当反应气体为低蒸汽压力的气体时,甚至无法进入反应桶内。

为了解决上述技术问题,发明人发明了“一种粉体表面包覆机的气体输送装置”,其包括一设置有过气通道的转轴,并将供气装置与过气通道相连通,以将供气装置输出的反应气体通过过气通道直接输出到内桶的反应腔内。而现有技术的内桶并不适用于该设置有过气通道的转轴。可以理解地,表面包覆机除了应用于粉体外,还可应用于其他‘待包覆件’,例如零部件、轴承、螺丝等工件,或药剂颗粒,或其他3D物体。有鉴于此,发明人在研究了现有的技术后特提出本申请。

实用新型内容

本实用新型提供了一种粉体表面包覆机的粉体盛放机构,旨在改善现有的内桶不适用于设置有过气通道的转轴的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种粉体表面包覆机的粉体盛放机构,其可拆卸的配置于设置有第一气道的转轴。所述粉体盛放机构包含:

内桶,其内置有用以盛放粉体的反应腔,以及连通于所述反应腔的进气口和出气口;

一对过滤件,其分别可拆卸的配置于所述进气口和所述出气口,用以防止所述反应腔内的粉体跑出;

连接管道;其可拆卸的配置于所述内桶和所述转轴,且内置有连通所述第一气道和所述进气口的第二气道;

反应气体能够自第一气道穿过第二气道,并进入反应腔内并从出气口排出。

作为进一步优化,所述内桶包括筒状的桶身,以及可拆卸的设于桶身,且具有所述进气口的进气盖;所述连接管道可拆卸的配置于所述进气盖。

作为进一步优化,所述内桶还包括可拆卸的设于桶身,且具有所述出气口的出气盖。

作为进一步优化,所述桶身的内壁设置有用以搅拌并分散粉末的搅拌叶片。

作为进一步优化,所述粉体盛放机构还包括配置于所述内桶外壁的至少两个旋转叶片。

作为进一步优化,所述旋转叶片所在的平面于所述内桶的轴线具有夹角,所述夹角为10-80度。

作为进一步优化,所述连接管道的内壁设置有内螺纹或外壁设置有外螺纹,所述转轴设置有与之适配的外螺纹或内螺纹。

作为进一步优化,所述过滤件具有多个过滤孔,所述过滤孔的孔径为 0.01-10000微米。

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