[实用新型]一种烤盘有效

专利信息
申请号: 202020504462.8 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN212307610U 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 林俊;孙华忠 申请(专利权)人: 浙江苏泊尔股份有限公司
主分类号: A47J37/06 分类号: A47J37/06
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 冯伟
地址: 317604 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种
【权利要求书】:

1.一种烤盘,所述烤盘包括侧壁(1)和底壁(2),所述侧壁(1)与所述底壁(2)连接,围成腔体(3),其特征在于;

所述底壁(2)包括位于所述腔体(3)内的内表面(21),且所述烤盘包括至少两个烹饪区,相邻两个烹饪区的内表面(21)相互连接且具有高度差。

2.根据权利要求1所述的烤盘,其特征在于,在相邻两个烹饪区的内表面(21)中,至少一者为斜面、阶梯面或弧面。

3.根据权利要求1所述的烤盘,其特征在于,所述烤盘还包括一个或多个分隔部(4),所述分隔部(4)与所述底壁(2)和/或所述侧壁(1)连接,用于将所述腔体(3)分成至少两个不同的烹饪区。

4.根据权利要求3所述的烤盘,其特征在于,所述烤盘具有通道,所述通道用于连通相邻所述烹饪区的内腔。

5.根据权利要求4所述的烤盘,其特征在于,所述分隔部(4)靠近所述底壁(2)的一端设置有至少一个通孔(41),所述通孔(41)形成所述通道。

6.根据权利要求4所述的烤盘,其特征在于,所述分隔部(4)与所述底壁(2)连接,所述分隔部(4)的至少一侧与所述侧壁(1)之间具有间隙(5),所述间隙(5)形成所述通道。

7.根据权利要求4所述的烤盘,其特征在于,所述烤盘的底壁(2)具有第一凹槽(22),所述第一凹槽(22)沿周向设置在各所述烹饪区的各所述底壁(2)中高度较高的一者,所述第一凹槽(22)形成所述通道。

8.根据权利要求4所述的烤盘,其特征在于,所述底壁(2)具有第二凹槽(23),所述第二凹槽(23)延伸至各烹饪区的内腔,所述第二凹槽(23)形成所述通道。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的烤盘,其特征在于,所述烤盘至少包括第一烹饪区(31)和第二烹饪区(32),所述第一烹饪区(31)的底壁(2)具有第一内表面(211),所述第二烹饪区(32)的底壁(2)具有第二内表面(212),所述第一内表面(211)与所述第二内表面(212)连接;

所述第一内表面(211)为斜面,所述第二内表面(212)为平面,沿靠近所述第二内表面(212)的方向,所述第一内表面(211)的高度逐渐降低。

10.根据权利要求1~8中任一项所述的烤盘,其特征在于,所述烤盘至少包括第一烹饪区(31)和第二烹饪区(32),所述第一烹饪区(31)的底壁(2)具有第一内表面(211),所述第二烹饪区(32)的底壁(2)具有第二内表面(212);

所述第一内表面(211)为斜面,所述第二内表面(212)为斜面,且所述第一内表面(211)与所述第二内表面(212)的倾斜方向相同。

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