[实用新型]一种气体优化输送系统有效
申请号: | 202020518759.X | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN213018876U | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 孙国才;董云海;柳彤;商洪涛;沙婷;王志民;鲁毅;罗文健;袁瑞玲;齐航 | 申请(专利权)人: | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 |
主分类号: | F17C7/00 | 分类号: | F17C7/00;F17C13/00;F17C13/02;F17D1/04;F17D3/01 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 梁倩;廖辉 |
地址: | 056027*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气体 优化 输送 系统 | ||
本实用新型公开了一种气体优化输送系统,包括:A侧气体容器、B侧气体容器、一次减压自动切换盘及纯化装置;A侧气体容器通过管路A与一次减压自动切换盘的一个输入端连接,B侧气体容器通过管路B与一次减压自动切换盘的另一个输入端连接,一次减压自动切换盘的输出端与纯化装置的输入端连接,纯化装置的输出端与外部终端气体供应装置连接;辅通路管道的一端与位于二次调压阀组和纯化装置之间的主通路管道相通,另一端分别通过两个辅助支管与管路A及管路B一一对应相通;本实用新型通过采用主通道管路与辅通路管道共享主气源的模式,具有节省空间的效果,解决了现有的电子大宗气体供气系统中辅助气源占用空间且故障时维修不便的问题。
技术领域
本实用新型属于气体输送设备技术领域,具体涉及一种气体优化输送系统。
背景技术
大宗气体输送过程,尤其是半导体用电子大宗气体输送过程中,对气体的连续供应提出的要求极高。并且电子大宗气体气站规划时,通常气站受气站空间的限制,不宜存放过多的气体气源容器。
气源为气相的大宗气体输送,通常气源为高压容器盛装高压气体,通过减压后为下游的低压终端使用点输送气体,为保证下游不间断供气,通常会采用多个气源合减压装置并行供应,气源压力变低或者减压装置的故障都有可能给下游供应带来压力波动,为了减少上述风险,需要设计一个储存量较少的辅助气源搭配后续辅助减压系统,以减少主气源压力低下和主减压系统的故障带来的供应风险。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供了一种气体优化输送系统,通过采用主通道管路与辅通路管道共享主气源的模式,具有节省空间的效果,解决了现有的电子大宗气体供气系统中辅助气源占用空间且故障时维修不便的问题。
本实用新型是通过下述技术方案实现的:
一种气体优化输送系统,包括:A侧气体容器、B侧气体容器、一次减压自动切换盘、二次调压阀组、纯化装置、一次减压阀、二次减压阀及阀门;
所述A侧气体容器和B侧气体容器内均充满高压气体;
整体连接关系如下:所述A侧气体容器通过管路A与一次减压自动切换盘的一个输入端连接,所述B侧气体容器通过管路B与一次减压自动切换盘的另一个输入端连接,一次减压自动切换盘的输出端通过一段主通路管道与纯化装置的输入端连接,纯化装置的输出端通过另一段主通路管道与外部终端气体供应装置连接;
位于减压自动切换盘和纯化装置之间的主通路管道上安装有二次调压阀组;
所述辅通路管道的一端与位于二次调压阀组和纯化装置之间的主通路管道相通,另一端分别通过两个辅助支管与管路A及管路B一一对应相通;
所述辅通路管道安装有一次减压阀和二次减压阀;
所述管路A、管路B及两个辅助支管上均安装有阀门。
进一步的,还包括急停阀;
所述急停阀安装在二次调压阀组和纯化装置之间的主通路管道上。
进一步的,还包括分析仪;
所述分析仪安装在纯化装置与外部终端气体供应装置连接之间的主通路管道上。
进一步的,还包括压力表;
所述管路A、管路B、位于纯化装置和外部终端气体供应装置之间的主通路管道、二次调压阀组及二次减压阀上均安装有压力表。
进一步的,还包括原料气检测装置;
所述原料气检测装置安装在与两个辅助支管相通的管路上。
进一步的,所述二次调压阀组由两个并联的调压阀组成。
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