[实用新型]用于全反射棱镜的保偏膜及全反射棱镜有效
申请号: | 202020521772.0 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN212160134U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 朱元强;魏德全;郭少琴;黄木旺 | 申请(专利权)人: | 福建福特科光电股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/04 | 分类号: | G02B5/04;G02B1/10;G02B1/00;G02B27/28 |
代理公司: | 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙) 35220 | 代理人: | 方金芝 |
地址: | 350100 福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 全反射 棱镜 保偏膜 | ||
本实用新型涉及用于全反射棱镜的保偏膜及全反射棱镜,所述的保偏膜由以下膜层从贴近全反射棱镜的全反射面的里层向外层依次堆叠而成:厚度为37.2‑93.9nm第一SiO2膜层、厚度为123.0‑223.9nm的第一TiO2膜层,厚度为44.3‑189.6nm的第二SiO2膜层,厚度为43.0‑54.8nm的第二TiO2膜层,厚度为98.7‑142.6nm的第三SiO2膜层。该发明方案采用全反射棱镜的全反射原理来消除反射损耗,实现100%反射率的效果;该发明方案采用全反射棱镜的全反射原理来消除反射光的偏振相关损耗,使得P偏振光和S偏振光的反射率相等。
技术领域
本实用新型涉及光学领域,特别涉及用于全反射棱镜的保偏膜及全反射棱镜。
背景技术
光学系统中的反射镜会在一定程度上改变入射光的偏振态,即产生残余偏振,会降低光学系统的成像能力。因此在某些光学反射系统中,应避免或减少残余偏振,使得入射光的偏振态经过反射后保持不变,即要求使用保偏反射镜。保偏反射,等效于光束经过反射镜后不发生相位延迟,P偏振光和S偏振光的强度保持一致。
一般的光学反射位移器件,如角锥棱镜、直角棱镜等,都基于光束从光密介质到光疏介质的全反射原理实现光束折返,而由于全反射对光束相位损失的影响,反射光束的偏振态较入射光束发生了变化,使其无法应用于有保偏特性要求的应用场合。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于全反射棱镜的保偏膜及全反射棱镜,所述保偏膜能镀制或粘附于全反射棱镜的全反射面上,形成全反射保偏棱镜,通过本实用新型所述的全反射保偏棱镜,进行光线的反射时,只要光线通过全反射棱镜入射到该全反射棱镜的全反射面上的入射角大于全反射角,反射后的光线相位差为180°,并且P偏振光和S偏振光的强度保持一致。
方案一)
一种用于全反射棱镜的保偏膜,由以下膜层从贴近全反射棱镜的全反射面的里层向外层依次堆叠而成:
厚度为37.2-93.9nm第一SiO2膜层、厚度为123.0-223.9nm的第一TiO2膜层,厚度为44.3-189.6nm的第二SiO2膜层,厚度为43.0-54.8nm的第二TiO2膜层,厚度为98.7-142.6nm的第三SiO2膜层。
具体地,所述的第一SiO2膜层厚度为48.6nm;第一TiO2膜层厚度为 137.9nm;第二SiO2膜层厚度为44.3nm;第二TiO2膜层厚度为43.0nm;第三 SiO2膜层厚度为142.6nm。
具体地,所述的第一SiO2膜层厚度为37.2nm;第一TiO2膜层厚度为123.0nm;第二SiO2膜层厚度为46.5nm;第二TiO2膜层厚度为54.8nm;第三 SiO2膜层厚度为107.6nm。
具体地,所述的第一SiO2膜层厚度为93.9nm;第一TiO2膜层厚度为 223.9nm;第二SiO2膜层厚度为189.6nm;第二TiO2膜层厚度为43.7nm;第三 SiO2膜层厚度为98.7nm。
方案二)
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建福特科光电股份有限公司,未经福建福特科光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020521772.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种雕刻机用固定夹具
- 下一篇:一种构造柱钢筋绑扎支撑装置