[实用新型]一种双重防伪膜有效

专利信息
申请号: 202020523021.2 申请日: 2020-04-10
公开(公告)号: CN212434086U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 朱昊枢;叶瑞;孙营春;左志成;陈蓓蓓;陈林森;朱志坚 申请(专利权)人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 苏州简理知识产权代理有限公司 32371 代理人: 杨瑞玲
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 双重 防伪
【权利要求书】:

1.一种双重防伪膜,其特征在于,其包括:

基膜层;

信息层,其具有微纳结构,所述微纳结构包括若干结构单元,若干所述结构单元呈阵列交错排布,所述结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形,在同一所述结构单元中,各所述微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布,在所述微纳结构中,各个所述微纳图形互不接触,所述微纳图形的纵横比大于1,所述微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构;

变色层,其随着观察角度的变化,颜色发生变化。

2.根据权利要求1所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述基膜层、所述信息层和所述变色层依次层叠设置;

所述信息层在远离所述基膜层的一侧具有所述微纳结构。

3.根据权利要求1所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述信息层、所述基膜层和所述变色层依次层叠设置;

所述信息层在远离所述基膜层的一侧具有所述微纳结构。

4.根据根据权利要求2或3所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述变色层包括依次层叠设置的半透半反金属层、有机层以及金属反射层;

在所述半透半反金属层、有机层和金属反射层中,所述半透半反金属层最靠近所述基膜层。

5.根据权利要求2或3所述的双重防伪膜,其特征在于,

其还包括第一胶层和剥离层,

所述第一胶层设置于所述变色层远离所述基膜层的一侧;

所述剥离层设置于所述第一胶层远离所述变色层的一侧。

6.根据权利要求5所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述第一胶层为压敏胶层;

所述剥离层为离型膜或者离型纸。

7.根据权利要求2所述的双重防伪膜,其特征在于,

其还包括离型层和第二胶层,

所述离型层设置于所述基膜层和信息层之间;

所述第二胶层设置于所述变色层远离所述信息层的一侧。

8.根据权利要求7所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述离型层为离型树脂层;

所述第二胶层为热熔胶层。

9.根据权利要求1所述的双重防伪膜,其特征在于,

若干所述结构单元沿垂直于各个微纳图形的轴线方向排成多个行;

相邻两行中相邻的两个微纳结构单元,其中一个微纳结构单元的最长微纳图形与另一个微纳结构单元的最短微纳图形相对,

所述结构单元为菱形;

同一行中,相邻的两个菱形结构单元共用最短的一个微纳图形。

10.根据权利要求1所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述微纳图形凸起的高度和/或凹陷的深度为500nm-50um;

所述微纳图形的间隔为500nm-50um;

所述微纳图形凸起的高度和/或凹槽的深度大于微纳图形的宽度。

11.根据权利要求10所述的双重防伪膜,其特征在于,

所述微纳图形凸起的高度和/或凹陷的深度为1um-10um;

所述微纳图形的间隔为1um-10um。

12.如权利要求1和9-11任一所述的双重防伪膜,其特征在于,

当无光源照射时,所述微纳结构不显示特殊光效;

当有光源照射时,以光源照射到所述微纳结构上的照射位置为中心,向外发散光芒,且所述光芒从所述中心向外呈现周期性彩色变化。

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