[实用新型]光学成像系统有效
申请号: | 202020532781.X | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN212460163U | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘耀维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06 |
代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;胡瑾 |
地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,从物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有屈折力,其物侧面为凹面,其像侧面为凹面;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第五透镜,具有屈折力;
一第六透镜,具有屈折力;
一第七透镜,具有屈折力;以及
一成像面,其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为七枚且至少一个透镜之材质为玻璃,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述第一透镜至所述第七透镜中的至少一个透镜具有正屈折力,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统之入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述光学成像系统之最大可视角度的一半为HAF,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述多个透镜中任一透镜之任一表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径之垂直高度处的坐标点为止,前述两点间之轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:1≤f/HEP≤10;0degHAF≤100deg;以及0.9≤2(ARE/HEP)≤2.0。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统系满足下列关系式:0.5≤HOS/HOI≤1.9。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜至所述第七透镜中至少两个透镜其个别之至少一各表面具有至少一个反曲点。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,还包括一光圈,并且于所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统于结像时之TV畸变为TDT,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述光学成像系统的正向子午面光扇之最长工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇之最短工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇之最长工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇之最短工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇之最长工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇之最短工作波长穿过所述入射瞳边缘并入射在所述成像面上0.7HOI处之横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≤100微米;PSTA≤100微米;NLTA≤100微米;NSTA≤100微米;SLTA≤100微米;以及SSTA≤100微米;│TDT│100%。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述多个透镜中任一透镜之任一表面的最大有效半径以EHD表示,所述多个透镜中任一透镜之任一表面与光轴的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面之最大有效半径处为终点,前述两点间之轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.9≤ARS/EHD≤2.0。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第七透镜之物侧表面于光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径之垂直高度处的坐标点为止,前述两点间之轮廓曲线长度为ARE71,所述第七透镜之像侧表面于光轴上的交点为起点,沿着所述表面的轮廓直到所述表面上距离光轴1/2入射瞳直径之垂直高度处的坐标点为止,前述两点间之轮廓曲线长度为ARE72,第七透镜于光轴上的厚度为TP7,其满足下列条件:0.05≤ARE71/TP7≤35;以及0.05≤ARE72/TP7≤35。
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