[实用新型]一种图形化外延生长的设备结构

权利要求书

1.一种图形化外延生长的设备结构，包括真空腔室(4)，其特征在于：所述真空腔室(4)一端设置有供气管(3)，且所述供气管(3)与所述真空腔室(4)固定连接，所述供气管(3)远离所述真空腔室(4)一端设置有真空泵(2)，且所述真空泵(2)与所述供气管(3)固定连接，所述真空腔室(4)外侧设置有激光窗口(5)，且所述激光窗口(5)与所述真空腔室(4)固定连接，所述真空腔室(4)右上方设置有操作面板(1)，且所述操作面板(1)与所述真空腔室(4)固定连接，所述真空腔室(4)内部底端设置有加热室(6)，且所述加热室(6)与所述真空腔室(4)固定连接，所述加热室(6)上表面设置有加热台面(7)，且所述加热台面(7)与所述加热室(6)固定连接，所述加热台面(7)上表面设置有晶圆(9)，且所述晶圆(9)与所述加热台面(7)固定连接，所述真空腔室(4)内侧壁设置有聚光镜(8)，且所述聚光镜(8)与所述真空腔室(4)固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种图形化外延生长的设备结构，其特征在于：所述真空腔室(4)内部真空度可时时调控，调控的范围为零点一至一万帕。

3.根据权利要求1所述的一种图形化外延生长的设备结构，其特征在于：所述真空腔室(4)的内部设置有高纯度惰性气体或还原性气体，所述惰性气体为氮气或者氩气，所述还原性气体为氢气。

4.根据权利要求1所述的一种图形化外延生长的设备结构，其特征在于：所述供气管(3)内部设置前驱体，所述前驱体为一种或两种或多种气态化学品。

5.根据权利要求4所述的一种图形化外延生长的设备结构，其特征在于：所述驱体是两种以上化学品时，可根据需要同时或交替通入所述真空腔室(4)的内部。

6.根据权利要求1所述的一种图形化外延生长的设备结构，其特征在于：所述激光窗口(5)设置在所述晶圆(9)和振镜之间，所述激光窗口(5)的材料为高纯石英或玻璃或石英晶体或氟化钠晶体等，优选石英玻璃。