[实用新型]一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头有效
申请号: | 202020560952.X | 申请日: | 2020-04-16 |
公开(公告)号: | CN211163459U | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 孟松林;赵德文;李长坤;倪孟骐 | 申请(专利权)人: | 华海清科股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/32 | 分类号: | B24B37/32;B24B37/34 |
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地址: | 300350 天津市津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 保持 承载 | ||
1.一种化学机械抛光保持环,其特征在于,包括环形部,所述环形部包括金属部和非金属部,所述金属部设置于所述非金属部的上侧并通过粘接层结合形成为层叠结构,所述金属部的内侧面、顶面和外侧面的表面粗糙度Ra介于6.3μm-25μm,所述金属部的顶面和外侧面涂覆有防护层,所述防护层的厚度为0.01μm-50μm,所述防护层覆盖金属部与非金属部之间的粘接层。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光保持环,其特征在于,所述金属部的顶面设置有螺纹套,所述螺纹套的内部及顶面涂覆有防护层;所述防护层为聚对二甲苯,其厚度为0.1μm-10μm。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光保持环,其特征在于,所述防护层为氟树脂类疏水涂层。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光保持环,其特征在于,所述金属部与防护层之间还涂覆有附着增强层,以增强防护层与金属部的附着力;所述附着增强层为高分子粘合剂,其厚度为0.01μm-10μm。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光保持环,其特征在于,所述防护层为热塑性聚合物,其为聚四氟乙烯PTFE。
6.一种化学机械抛光承载头,其特征在于:包括权利要求1-5任一项所述的化学机械抛光保持环。
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