[实用新型]一种用于激光直写曝光机的曝光平台

权利要求书

1.一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：包括运动及负载底板、支撑机构、滑动机构和驱动机构；

所述运动及负载底板上安装有光头；

所述支撑机构包括底座、安装在底座上方的立柱、安装在立柱前端顶部的前导轨基座和安装在立柱后端顶部的后导轨基座；

所述滑动机构包括前导轨组件和后导轨组件；所述前导轨组件包括安装在前导轨基座顶部的前导轨和安装在前导轨上且与前导轨滑动配合的前滑块；所述后导轨组件包括安装在后导轨基座顶部的后导轨和安装在后导轨上且与后导轨滑动配合的后滑块；所述运动及负载底板位于滑动机构上方，且运动及负载底板的前后两端的底部分别与前滑块、后滑块固定相连；

所述驱动机构包括安装在后导轨基座顶部且用于驱动运动及负载底板沿导轨滑动的电机。

2.根据权利要求1所述的一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：所述运动及负载底板上开设有光头安装孔；所述光头安装在光头安装孔中，且光头位于前导轨组件与后导轨组件之间。

3.根据权利要求1所述的一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：所述后导轨包括分别设置在后导轨基座前后两端顶部的导轨一与导轨二，所述导轨一上安装有与导轨一滑动配合的滑块一，所述导轨二上安装有与导轨二滑动配合的滑块二。

4.根据权利要求1所述的一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：所述底座采用大理石材质。

5.根据权利要求1所述的一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：所述立柱包括分别对称设置在底座上方的一对柱体；所述柱体的中间设有凹槽。

6.根据权利要求3所述的一种用于激光直写曝光机的曝光平台，其特征在于：所述电机位于导轨一与导轨二之间。